|
|||||
|
|
| 溅射法快速沉积YBCO超导薄膜的研究北大核心CSCD | |
| 引用本文： | 朱昌伟熊杰陶伯万赵晓辉张飞夏玉东薛炎郭培.溅射法快速沉积YBCO超导薄膜的研究北大核心CSCD[J].低温物理学报,2013(6):455-459. |
| 作者姓名： | 朱昌伟熊杰陶伯万赵晓辉张飞夏玉东薛炎郭培 |
| 作者单位： | 1.电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室610054; |
| 摘 要： | 溅射法制备高温超导YBa2Cu3O7-δ(YBCO)薄膜材料目前存在的主要问题是沉积速率慢,制备效率低,大面积薄膜均匀性差.本文中,设计了多工位盒型靶直流溅射镀膜系统,提高了YBCO薄膜沉积速率和制备效率,一次工艺流程可沉积六片产品,总薄膜沉积速率最高可到250nm/h.基片自转与公转相结合,提高了薄膜的面内均匀性,同时研究了公转速度与自转速度的关系以及它们对薄膜生长的关系,发现只有在基片公转速度合适的情况下才能生长出性能好的薄膜.LaAlO3(LAO)单晶基片上YBCO薄膜临界电流密度超过2.8MA/cm2(77K,500nm,0T),薄膜微波表面电阻Rs(10GHz,77K)﹤0.2mΩ,1.8英寸内薄膜面内厚度起伏小于3%,双面薄膜一致性好,能够满足微波器件应用的要求. |
| 关 键 词： | 溅射 快速制备 高均匀性 YBCO 微波器件 |
| 本文献已被 维普 等数据库收录！ | |