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1.
近年来络合滴定测定钯国外曾报导用硫脲(Thio)释放Pd-EDTA中之EDTA,以二甲酚橙为指示剂,用铅返滴释放之EDTA,计算钯含量。该法选择性较好,Fe~(3+)、Ti~(4+)、La~(3-)、Zn~(2+)、Ni~(2+)、Zr~(4-)等等都无干扰,是分析钯合金的较好方法。我们分析钯合金时先以纯钯试验,按文献[1]  相似文献   
2.
以硫脲为络合剂,在低酸性介质中原子吸收测银已被用于矿石样品分析中、文献曾对矿石中一定量的Fe~(3+)、Cu~(2+)、Mn~(2+)、Au~(3+)、Ni~(2+)、Al~(3+)、Ca~(2+)、Cr~(6+)、K~+,Na~+等元素进行试验,结果证明上述元素共存基本不干扰银的测定。大量钯对银的影响未见报导。作者分析Pd-Ag-Si-Fe样品中的Ag时,(Pd80—90%、Ag2.0—12.5%,Si—4%,Fe0.6—13.5%)  相似文献   
3.
本文采用ICP-AES法同时测定了掺质Ca3(VO4)2,晶体中Ca,V,Nd,Yb,Ge的含量,选择了合适的分析谱线和积分时间,试样用硝酸溶解后直接测定,方法简便,准确,快速,合成试样中各被测元素的回收率为98%-104%,相对标准偏差〈4.0%,Nd,Yb,Ge的检出限为0.0002-0.018μg/mL。  相似文献   
4.
本文阐述了用等离子体发射光谱法测定单晶硅中微量锗的方法。试验了三种样品制备方法,结果表明,样品溶解于硝酸加氢氟酸中,除云硅后直接测定锗的方法最好,其检出限是0.0237μg/mL,合成样品的回收率为99.9%-100.2%,相对标准偏差小于3.6%。  相似文献   
5.
ICP-AES法同时测定纯铁中八种杂质元素   总被引:10,自引:1,他引:9  
本文研究了用ICP-AES法同时测定纯铁中8种杂质元素:Cr、Cu、Mg、Mn、Mo、Ni、Ti、V的分析方法。研究了铁基体地被测元素光谱线的光谱干扰与物理干扰,采用背景扣除法与基体匹配法进行校正。被测元素的检出限为0.4-3.0μg/L,合成试样的回收率为91-110%,杂持元素含量为0.0003-0.05%时,测量的相对标准偏差〈9%,方法简便、准确、结果满意。  相似文献   
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