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meso-四(对-磺酸基苯基)卟啉与痕量铋(Ⅲ)显色反应的研究 总被引:2,自引:0,他引:2
本文研究了在催化剂Hg(Ⅱ)存在下,meso-四(对-磺酸基苯基)卟啉与铋(Ⅲ)的显色反应。在室温下,在弱酸性介质中,反应在7min内完成。配合物的最大吸收波长为462nm,表观摩尔吸光系数为3.78×10~5L·mol~(-1)·cm~(-1)。Bi(Ⅲ)含量在0~10μg/mL范围内符合比尔定律。配合物的组成为Bi(Ⅲ):TPPS_4=2:3。是目前测定Bi(Ⅲ)灵敏度最高的显色反应之一。用于矿样中痕量铋(Ⅲ)的测定获得了较为满意的结果。 相似文献
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本文报导了ICP光源中的去溶效应。通过对杂质元素在去溶装置(加热室和冷凝器)中损失量的直接测定,统计观察了十三种杂质元素的去溶损失率与去溶温度,溶液介质,酸度以及与溶液中基体物质的关系,得出了相应的结论。 相似文献
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合成了meso-四(4-磺酸基-1-萘基)卟啉.用元素分析和红外光谱证明了产物的结构,以光度法测定了试剂在水溶液中的离解常数.在pH=7.0的六次甲基四胺的缓冲溶液中.痕量镉与试剂形成1:2的黄绿色配合物,λ_(max)=440nm,表观摩尔吸光系数ε=4.51×10~5L·mol~(-1)·cm~(-1).Cd(Ⅱ)的浓度在0~0.14μg·ml~(-1)内符合比耳定律. 相似文献
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插层复合体系中,有机插层剂在插层的同时也可能吸附在复合物的表面或以自由态存在,对插层分子的表征将会产生较大的影响。以丙酮作淋洗剂,用FTIR及XRD技术对淋洗前后的插层复合体系监控,插层剂分子在复合体系中的可能存在形式,探讨水的作用及复合物微观结构的变化。结果显示:甲酰胺有插层、游离和吸附在复合物表面三种存在形态。3 355和3 462 cm-1处的红外振动峰归属于表面吸附的插层剂分子,3 626 cm-1的峰归属于插层的H2O分子,在干燥后均消失。H2O作为填充空间的分子参预了插层过程,且插入到层间,并在干燥后脱嵌。3 534 cm-1处的振动峰在淋洗前后一直存在,是由于插层的甲酰胺分子与高岭石层间形成氢键作用的结果。以丙酮作为淋洗剂,可以选择性的消除表面吸附的甲酰胺而不影响复合物的结构。插层的甲酰胺分子以C—N键垂直于层片呈单分子层排列,并通过氨基与高岭石铝氧八面体层的内表面羟基和硅氧四面体层的氧形成了两种氢键作用。 相似文献
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描述了一种新型低混杂波天线/有源/无源波导间隔排列的阵列天线,给出了其物理模型和计算方法,对其发射波谱和反射特性进行了研究。计算了这种波导阵列中的有源波导的平均反射系数和发射波谱的方向性系数随等离子体参数和天线参数的变化关系,以及不同参数下的发射波谱,并对HL-1M装置上现有低混杂波天线特性做了更进一步的分析计算。 相似文献
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苯甲酰胺在熔融状态下取代前驱体中的DMSO分子插层高岭石,产物经丙酮洗涤,得到纯净的高岭石/苯甲酰胺插层复合物。XRD结果显示高岭石层间距从0.717 nm膨胀到1.437 nm。插层作用使高岭石内表面羟基红外伸缩振动峰由3 696和3 657 cm-1移动至3 701和3 651 cm-1处;苯甲酰胺3 368和3 172 cm-1处NH2基伸缩振动峰红移至3 474和3 184 cm-1处,1 659 cm-1处羰基峰移至1 640 cm-1处,这些表明原高岭石层间氢键的损失及与苯甲酰胺分子之间氢键的形成。插层反应于30 min迅速达到平衡,插层率随反应温度的增加先增加后减小,180 ℃时有最大插层率;以丙酮作为洗涤剂可以消除表面吸附和残余的苯甲酰胺晶体而不影响复合物的结构。 相似文献