磁头抛光液用金刚石超微粉研究

利用原子吸收光谱（AAS）、电感耦合等离子体质谱（ICP-MS）、粉晶X射线衍射（XRD）、激光拉曼光谱（RAMAN）、透射电子显微镜（TEM）等手段对磁头抛光液用金刚石超微粉进行了研究。AAS和ICP-MS测试结果显示,静压触媒法合成的金刚石超微粉中主要含有硅的氧化物和铁、镍、铝等一些金属杂质;XRD图谱中除了金刚石尖锐的特征峰以外,在2θ=35.6°, 39.4°, 59.7°处还观察到SiO₂的特征衍射峰,表明金刚石超微粉结晶程度高、硬度大,但其中含有一定量的硅氧化物物相;在RAMAN图谱中除了金刚石的特征谱外在1 592 cm-1处可观察到宽化了的石墨的特征谱;从TEM照片可以观察到微粉粒度分布在0.1～0.5 μm之间,但是颗粒锋利棱角的存在有利于提高抛光效率。金刚石超微粉的高硬度、强的耐磨性、高的抛光效率使其适于作为磁头抛光液磨料使用。但是,杂质的存在影响抛光效率、缩短抛光液寿命;宽的粒度分布降低了抛光的精度。因此,使用前必须对金刚石超微粉进行提纯、分级处理;使得金刚石超微粉的纯度达到99.9％以上、有害杂质SiO₂的含量不超过0.01%,并且使超微粉的平均粒径为100 nm且大于200 nm的颗粒在总的颗粒中小于2%。