软X射线透射光栅制作技术

金透射光栅广泛用于真空紫外、X射线、物质波的衍射和光谱测量。分别介绍了美国麻省理工学院空间微结构实验室和中国科学技术大学国家同步辐射实验室的透射光栅制作技术及其新进展。麻省理工学院空间微结构实验室为完成 AXAF巨型空间天文台上的高能透射光栅谱仪经历了近 2 0年的发展 ,其光栅制作工艺日趋成熟 ,代表了当前世界最高水平。中国科学技术大学国家同步辐射实验室为了满足惯性约束核聚变实验研究的需要 ,在国内较早地开展了透射光栅的研制工作 ,在提高光栅质量的同时不断提高线密度     

合肥国家同步辐射光源软X射线束空间相干性实验研究

本文从实验角度对合肥国家同步辐射实验室软X射线束的空间相干性进行了研究.利用放置在物面上的高分辨正性光刻胶,记录了中心波长为3.2nm的波带片和针孔直径为30μm组合的光场分布(光斑),获得相应条件下的爱里斑及空间相干直径实验数据;完成了一个双缝干涉实验.所得的这些结果与理论计算相一致.     

Two-Photon Fluorescence Property and Ultrafast Dynamics of Two Dipolar Compounds with Dipicolinate as Electron Acceptor

Linear and nonlinear photophysical properties of two novel dipolar compounds named as trans- dimethyl-4-[4＇-（N,N-dimethylamino）-styry1]-pyridin-2,6-dicarboxylate （Xiao-1） and trans-dimethyl-4-[4＇-（N,N-diphenylamino）-styry1]-pyridin-2,6-dicarboxylate （Xiao-2） are investigated by steady-state absorption and fluorescence spectroscopy, Z-scan and two-photon excited fluorescence measurements. Strong two-photon fluorescence emission and the pronounced positive solvatochromism are observed from two compounds. The two-photon absorption cross section of Xiao-2 is about 1.5 times larger than that of Xiao-1. One-color and two-color femtosecond pump-probe experiments are employed to investigate the excited state dynamics of two compounds. The relaxation lifetime of the intra-molecular charge transfer state is determined to be in the hundreds of picosecond domain for both the compounds in THF, and several tens of picosecond in DMSO solutions.     

以螺硅双芴为共轭桥的有机双光子蓝色荧光材料的研究

有机双光子吸收材料在高速光通讯、光信息处理和光电子学等这些领域中的应用前景得到越来越广泛的重视.为了达到实用化的目标,材料的高非线性光学活性、热稳定性及透明性等性能还必须进一步综合优化[1].     

多官能团羰基化合物的高选择性不对称氢化

简要地介绍了我们小组最近在多官能团化羰基底物的区域和立体选择性氢化方面的一些进展,对该研究领域的继续深入应用前景进行了展望.     

软X射线直线单色仪光场分布实验研究

合肥国家同步辐射光源软X射线直线单色仪配备三种不同参数的波带片和针孔光阑,通过调节波带片和针孔光阑间的距离可输出1.97—5.44nm波段的软X射线.利用高分辨正性光刻胶,记录了CZP₃₂和30μm针孔光阑组合下的准确聚焦和大离焦量时的软X射线衍射图,即直线单色仪输出的光场分布.获得了有关爱里斑及空间相干半径等实验数据,所得结果与理论计算相一致. 关键词：     

同步辐射Laminar光栅的研制

采用全息离子束刻蚀和反应离子刻蚀相结合的新工艺 ,在熔石英基片上成功地刻蚀出 2 0 0l/mm、线空比 4:6、槽深 70nm、刻划面积 60× 2 0mm2 的浅槽矩形Laminar光栅。对改进光栅线条粗糙度和线空比的方法进行了系统的研究。这一新工艺相对简单 ,降低了对干涉系统光学元件和全息曝光显影的严格要求