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本介绍了一种高温超导薄膜表面图形成型的化学湿法刻蚀,实验采用饱和乙二胺四乙酸、3%H3PO4和饱和NH4Cl三种溶液作为腐蚀液,分别对几组YBCO膜样品进行刻蚀,实验中并向腐蚀液和清洗液中通入干燥N2气,中给出了测试数据,分析比较了样品刻蚀前后的Tc,摸索出一种在小尺寸微桥的光刻中对样品超导性能影响最小的化学湿刻技术。 相似文献
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