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传统的紫外熔石英元件加工方法本身会引入各类制造缺陷,需要后期加工来消除前期加工带来的缺陷,限制了熔石英元件的加工质量和加工效率。针对这些问题,课题组提出了采用磁流变、离子束、保形光顺和流体动压抛光等可控柔体加工技术提升熔石英元件的加工效果,并开展了相关研究。主要介绍了课题组在关键技术上取得的重要进展,包括亚纳米精度表面控形制造技术、纳米精度本征表面控性生成方法、熔石英元件高精度低缺陷组合工艺与设备等一系列关键技术。通过探讨关键技术及其发展现状,为未来紫外熔石英元件高精度低缺陷制造技术的发展提供参考。 相似文献
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为获得尤文肉瘤EWS-FLI1融合蛋白有效的HLA-A2.1限制性CTL表位, 综合运用BIMAS, SYFPEITHI, Predep和IEDB方案对EWS-FLI1进行CTL表位的预测, 得出8个CTL表位9肽序列; 应用多项式方案、量化基序方案对8个表位9肽进一步进行筛选, 获得其中4个9肽序列, 并进一步运用分子模拟方法初步模拟了4个表位肽与HLA-A2.1分子间的相互结合作用; 应用标准Fmoc方案合成CTL表位肽, RP-HPLC与MS分别鉴定合成肽的纯度与分子量; 通过亲和力实验验证了表位肽QIQLWQFLL(EWS-FLI1 304)与HLA-A2.1有较强的结合力, 从而为表位肽的后继免疫学特性研究提供了基础. 本研究提供了一个合理高效的表位筛选方法. 相似文献
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偏二甲肼在氟化镁涂层表面的吸附与反应 总被引:1,自引:0,他引:1
研究了偏二甲肼在氟化镁涂层表面的吸附和化学反应情况.首先用液相或气相偏二甲肼沾染氟化镁涂层表面,再将涂层置于真空环境足够长时间,然后通过对比沾染前、后涂层表面的红外吸收光谱、X射线光电子能谱和漫反射率,了解涂层表面的吸附状况和性能变化.实验表明,覆盖于氟化镁涂层表面的偏二甲肼液膜分子,在真空环境下充分脱附的时间约为2h,充分脱附后的涂层表面只有单层化学吸附存在,其质量密度约为27ng/cm2,实验后氟化镁涂层表面的漫反射率下降了10%~15%;在-10℃的偏二甲肼饱和蒸气中沾染10min后,氟化镁涂层表面的原子组成和漫反射率变化很小,红外吸收光谱也没有偏二甲肼特征峰出现. 相似文献
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钇系涂层超导体金属基带再结晶织构及显微组织 总被引:4,自引:1,他引:3
用轧制-再结晶热处理方法制备了强立方织构的纯Ni基带和无磁性Cu-Ni合金基带,为第二代钇钡铜氧高温超导带材提供了较好的基带材料,用三维取向分布函数(ODF)和ψ扫描曲线研究了织构,用金相显微镜研究了截面显微组织。分析表明,Cu0.70Ni0.30合金和纯Ni在再结晶温度为1000℃时,获得最强的立方结构;Cu0.85Ni0.15在900℃时获得最强的立方织构,立方织构强度大小各不相同,3种不同组分金属都获得了均匀的等轴的等轴晶粒组织,其中Cu0.85N0.15的晶粒大于Cu0.70Ni0.30和纯Ni的晶粒,Cu0.85Ni0.15和Cu0.70Ni0.30都出现了退火孪晶。 相似文献
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气相色谱-串联质谱法测定食品中的三聚氰胺 总被引:11,自引:0,他引:11
建立了使用气相色谱-串联质谱(GC-MS/MS)测定食品中三聚氰胺含量的分析方法。利用三氯乙酸超声萃取样品中的三聚氰胺,经乙酸锌溶液沉淀蛋白质后,将提取液离心、过滤、净化、衍生后采用GC-MS/MS的多反应监测模式(MRM)进行检测。方法的重现性良好,6次重复测定的峰面积的相对标准偏差小于9%;最低定量检测限(S/N=10)为1 μg/kg,在0.1~100 μg/L范围内具有良好的线性关系。应用所建立的方法测定了奶粉、奶糖、含乳饮料、饼干等食品中的三聚氰胺含量,为三聚氰胺滥用的检测和判断提供了方法。 相似文献
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