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Al互连线和Cu互连线的显微结构   总被引：3，自引：0，他引：3       下载免费PDF全文
利用电子背散射衍射(EBSD)技术，测量了由反应离子刻蚀工艺(RIE)制备的Al互连线和大马士革工艺(Damascene)制备的Cu互连线的显微结构，包括晶粒尺寸、晶体学取向和晶界特征.分析了Cu互连线线宽，及Al和Cu互连线退火工艺对互连线显微结构及电徙动失效的影响.  相似文献   
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