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用原子力显微镜测定了SiTiNPd基体,经不同沉积时间得到的非晶Ni13.1wt%Cu9.3wt%P薄膜的表面形貌,得到了AFM图像的多重分形谱.结果表明:随着沉积时间的增加,多重分形谱的宽度增加,Δf(Δf=f(αmin)-f(αmax))增大.说明沉积表面高度分布随着沉积时间的增加,不均匀性显著增加,镀层在水平和垂直方向生长并逐渐形成连续致密的镀层.这与对AFM图的观察是一致的
关键词:
多重分形谱
Ni-Cu-P合金
化学沉积
AFM图像 相似文献
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讨论了电子能量损失谱学及其在材料科学中的应用,主要内容包括:能量分析和选择系统,低能损失谱学,内层损失谱学,能量选择成像以及电子能量损失谱的精细结构的分析。 相似文献
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