石英玻璃片的化学抛光工艺研究

石英玻璃是紫外光刻、激光核技术等精密光学系统的关键光学元件.石英玻璃在加工过程中易出现表面及亚表面损伤和蚀坑等缺陷问题,化学抛光能有效消除石英玻璃的亚表面损伤.介绍了石英玻璃片的化学抛光工艺原理和过程,利用正交实验法优化了石英玻璃化学抛光工艺参数,分析了化学抛光过程中抛光液成分、抛光液温度和抛光时间对石英玻璃片表面粗糙...     

PVC膜修饰电极直接测定痕量聚氧乙烯类非离子表面活性剂

研究了一种新的PVC膜修饰电极微分脉冲伏安法直接测定痕量聚氧乙烯类非离子表面活性剂(PENS)的方法。由硫酸铜和四苯硼钠制得的配合物为活性物制成的PVC膜修饰电极在0.1mol/L NaOH溶液中对PENS有良好的选择性,-0.436V处出现1个灵敏的氧化峰。在最佳实验条件下,峰电流的降低与AEO9、AEO6、AEO3、TX-10分别在1.11×10-2~0.21nmol/L、4.34×10-2~64nmol/L、20.8nmol/L~4.1μmol/L、6.77×10-2~0.21nmol/L范围内有很好的线性关系,检出限分别为5.54×10-3、4.38×10-3、2.12、4.42×10-2nmol/L。该电极性能稳定,在AEO9浓度分别为0.16nmol/L和0.21nmol/L时,进行DPV测量(n=9),相对标准偏差分别为2.03%和1.97%。考察了环境水样中常见的共存离子对PENS测定的影响,结果表明大多数共存离子都有较高的允许量。PVC膜修饰电极的灵敏度高、选择性好、线性范围宽,不需预先分离,可直接用于环境水样中PENS含量的测定。     

表面活性剂对聚氯乙烯膜修饰电极电化学行为的影响

采用循环伏安法考察了所制备的聚氯乙烯(PVC)膜修饰电极的稳定性,结果表明,该修饰电极性能稳定,电极反应过程为扩散控制的过程。以循环伏安法、计时库仑法、稳态极化曲线法和交流阻抗法分别考察了阳离子(十六烷基三甲基溴化铵,CTMAB)、阴离子(十二烷基硫酸钠,SDS)和非离子(脂肪醇聚氧乙烯醚,AEO9)3种不同类型的表面活性剂对PVC膜-Ag[B(ph)4]修饰电极反应过程的影响。结果表明:加入CT-MAB或SDS后,PVC膜中Ag[B(ph)4]氧化态和还原态的扩散系数分别比电极在0.1mol/LKOH支持电解质中的扩散系数小,PVC膜修饰电极的反应过程受扩散控制的特征变得更明显,表明在此条件下膜中的电子转移速度加快,CTMAB或SDS对PVC膜修饰电极的电极反应过程有增敏作用。而加入AEO9后,PVC膜中的Ag[B(ph)4]氧化态和还原态的扩散系数比电极在0.1mol/LKOH支持电解质中的扩散系数大,并使电极反应的控制步骤从扩散控制转向含电子转移控制的扩散控制,表明在此条件下膜中的电子转移速度变慢,AEO9对PVC膜修饰电极的电极反应过程有抑制作用。     

金刚石粉表面化学镀镍工艺改进及镀层显微分析

对金刚石粉表面化学镀镍的反应机理进行了分析,并在活化和化学镀之间增加了一个还原步骤。采用正交实验优化了金刚石粉表面化学镀镍工艺,最优的化学镀参数为:硫酸镍26 g/L,次磷酸钠22 g/L,柠檬酸钠6 g/L,甲酸钠6 g/L,pH值为9~10。采用扫描电镜(SEM)、能谱成分分析(EDS)和X射线光电子能谱(XPS)对金刚石粉表面镀镍层的表面形貌、镀层成分及物相结构进行了分析。金刚石粉表面的致密镍-磷镀层中磷的质量分数为7.78%,属于中磷镀镍层,中磷镀镍的硬度,耐磨性和耐腐蚀性比较适中,且磁性小,有利于后续的电镀。     

微晶玻璃试片的化学抛光研究

光学零件的凹槽、孔道等复杂结构无法进行机械抛光,只能采用化学抛光。分析了化学抛光的机理和微晶玻璃的组成,设计了化学抛光技术方案、工艺流程和操作方法。对微晶玻璃化学抛光前后的光学表面进行了测试、分析。结果表明:化学抛光去除量主要由化学抛光液的温度和抛光时间控制。采用氟化氢铵、氢氟酸与添加剂组成的化学抛光液和合适的化学抛光工艺,可以能够得到光滑、透明的表面,表面粗糙度可降低到100nm;可见光透过率81%~83%。