衍射光栅自刻法

本文介绍以被刻光栅本身作为分度基准刻划长衍射光栅的新方法;以原基准信号控制机器,在一个长毛坯的前端刻出一段光栅,借此构成新的干涉仪以产生“自刻信号”,然后再以此信号控制机器,接着刻划光棚后面的部分.分析了转接误差对自刻光栅的影响,得出刻划长度和误差累积的关系.介绍了实验方案、装置、实验结果等.所刻样品光栅的衍射波阵面干涉条纹在转接处看不出错开和弯曲,实测分辨本领达到理论值的90%(半宽法).     

衍射光栅 集光效率的研究

<正> 集光效率是衍射光栅的重要光谱性能之一,人们利用“闪耀”的方法,即将三角形刻槽的一边垂直于衍射光线(自准式),使得衍射光栅将光能的大部分集中到某一光谱级次的某一波段,其中某一波长是集光的峰值,此波长称为闪耀波长,而相应的衍射角称为闪耀角。我们结合光栅刻划技术,将影响集光效率的因素分为两大类,即刻线沟槽的几何因素和物理因素加以研究。并从惠更斯原理出发,得出复杂槽形的计算方法。     

衍射光栅刻划机

本文介绍了长春光学精密机械研究所研制成功的四台衍射光栅刻划机。该机自1958年开始设计。1号、2号光栅刻划机为机械型,分别于1959年、1965年安装调试完毕。3号、4号光栅刻划机为光电干涉控制型,分别于1970年、1975年制成,每台光栅刻划机都有自己的特点。4号机连续运动时的锁相误差平均为1/100条纹,个别的最大不超过1/36条纹。利用这些类型的光栅刻划机已刻划出许多平面光栅,最大的刻划宽度达185毫米,刻线密度从每毫米60条到1200条。实测分辨本领最高达20万,相对效率最高达90％,一级罗兰鬼线最低为4×10~(-5),赖曼鬼线观察不到。