利用磁控溅射技术在熔融石英衬底上生长铟锡氧薄膜的结构和形貌特性研究

利用磁控溅射技术在熔融石英衬底上沉积铟锡氧薄膜(ITO),讨论了生长温度、沉积时间、激光辐照和退火对ITO薄膜结构及形貌的影响.随着沉积温度的升高和沉积时间的延长,薄膜的晶化程度得到明显的改善,方块电阻降低,并且薄膜的形貌从光滑表面的圆形多晶颗粒演变到枝杈形貌.短时间的脉冲激光辐照使得枝杈的尖状晶粒变得圆滑,导电性略有改善.ITO薄膜在可见光区的透过率在经过空气中退火处理后明显得以改善,平均透过率可以达到80%.