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MgB_2材料具备临界转变温度较高、相干长度大、临界电流和临界磁场高等优点,被认为有替代Nb基超导材料的潜力.研究了不同温度下以化学气相沉积法制备的硼(B)薄膜的微观结构.实验结果表明:较低温度沉积的B先驱薄膜为无定形B膜,可以与Mg蒸气反应生成MgB_2超导薄膜;当沉积温度高于550?C时,所得硼薄膜为晶型薄膜;以晶型硼薄膜为先驱膜在镁蒸气中退火,不能生成硼化镁超导薄膜.利用晶型B膜的这一特点,成功制备了以晶型硼薄膜为介质层的硼化镁超导约瑟夫森结. 相似文献
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采用脉冲激光方法,先在YSZ(yttria stablized zirconia)衬底上制备(YBa2Cu3O7-y)/YSZ高温超导薄膜,再用较低的激光能流密度(1.2-1.0Jcm^-2)沉积一层NBCO(NdB2Cu3O7-x)薄膜,形成NBCO/YBCO/YSZ双层超导薄膜。在制备完当时,存放40天和存放400天后分别对薄膜进行了X射线衍射分析和电阻-温度曲线测量。结果表明,NBCO/YBCO/YSZ双层膜的转变温度、结晶度和表面稳定性及光滑度都优于YBCO/YSZ薄膜的。在YBCO/YSZ上使用较低的激光能量可以制备出优质的c轴取向NBCO高温超导薄膜。 相似文献
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介绍了采用了MgB2薄膜的化学气相沉积(CVD)异位退火和双温区混合物理化学气相沉积(HPCVD)制备技术,并以B膜作为势垒层在多晶的Al2O3基底上制作了三明治结构的MgB2/B/MgB2多层膜.采用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)和标准四线法对制备的MgB2/B/MgB2多层膜的断面结构、超导薄膜晶体结构及超导特性进行了测量研究.结果表明,制备的MgB2/B/MgB2多层膜结构清晰,底层和顶层超导薄膜显示出良好的超导特性. 相似文献
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在多晶Al2O3衬底上化学气相沉积MgB2超导薄膜 总被引:1,自引:0,他引:1
报道了制备MgB2超导薄膜的一种新方法和测量结果,MgB2超导薄膜的制备采用的是两步异位退火方法,但在现有报道的方法不同的是,制备硼(B)先驱膜采用的是化学气相沉积方法,在460℃温度下热分解乙硼烷(B2H6)沉积的,然后镁(Mg)蒸气中分别在730℃、780℃和830℃条件下退火,生成MgB2超导薄膜,扫描电子显微镜观察表明制备薄膜是多晶的,MgB2晶料小于2μm。X衍射分析发现所生长的薄膜是随机取向的。800℃条件下退火生成的MgB2超导薄膜起始转变温度和零电阻温度分别达到35K和24K,结果表明,采用B2H6热分解化学气相沉积B先驱膜的方法在优化的沉积条件和退火条件下可制备高质量的MgB2超导薄膜,我们这种化学气相沉积MgB2超导薄膜方法在大面积的MgB2超导薄膜制备方面较脉冲激光沉积方法具有优势,并且与现有的半导体工艺技术相兼容,有利用实现MgB2超导薄膜在电子器件方面的应用。 相似文献
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