KH570液/气相改性对SiO_2薄膜耐潮湿性能的影响

选用有机硅烷KH570(γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷)作为修饰剂,分别采用液相修饰和气相修饰这两种方法制备SiO_2改性薄膜,并对比两种方法对薄膜成分、结构、耐潮湿性能的影响。结果表明,经KH570气相处理和液相修饰后,薄膜表面结构均变得更加致密;水接触角从38°分别增大至86°和99°;在高湿度环境中放置60 d后薄膜的峰值透过率分别下降0.02%和0.01%。改性薄膜表面接触角均未达到超疏水程度却仍然具有良好的耐潮湿性能,这一结果表明,薄膜的耐潮湿性能并不单纯取决于薄膜表面疏水角的大小,而是同时受到薄膜的表面结构和组成成分的综合影响。     

光拍法测光速的实验误差分析及方法改进

传统的光拍法测光速的实验误差在0.5%到8%之间。本文通过分析产生实验误差的主要原因,总结相关文献提到的改进方法的优缺点,使用CG-IV型光速测定仪,通过改用具有光标功能的YB4325型示波器、使用Excel软件对实验数据进行处理等手段对实验进行改进。通过优化测量方法、多次实测后发现,改良后的实验得到的光速值误差均在1%以下,实验精度得到明显提高,改良效果十分理想。