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过渡金属酞菁配合物化学修饰电极的研究:Ⅳ对抗坏血酸的电催化氧化 总被引:1,自引:0,他引:1
用化学吸附法首次制备了FE(Ⅱ)、Co(Ⅱ)、Ni(Ⅱ)和Cu(Ⅱ)的3,3′,3′′,3′′′-四硝基酞菁配合物化学修饰电极(ML CME),用循环伏安法(CV)研究了它们对抗坏血酸(AH_2)的电催化氧化.与未修饰玻碳电极(GC)相比,AH_2在ML CME(GC基体)上的氧化峰电位(Epa)负移150mV左右,氧比峰电流(Ipa)明显增大.各ML CME对AH_2的电催化氧化活性均有很高的稳定性.AH_2在ML CME上的氧化峰电流和AH_2的浓度之间有着良好的线性关系. 相似文献
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合成了一系列过渡金属的3,3,′3,″3(?)-四硝基酞菁配合物,用不可逆吸附法制备了它们的以玻碳为基体的化学修饰电极(简记为ML CME,M为金属离子,L为酞菁配体).用CV等方法系统地研究了它们的电化学性质特别是电催化性能,本文报道ML CME(M为Fe~(Ⅱ)、Co~(Ⅱ)、Ni~(Ⅱ)和Cu~(Ⅱ))对异菸肼氧化的电催化作用. 相似文献
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用不可逆吸附法首次制备了Fe(Ⅱ)、Co(Ⅱ)、Ni(Ⅱ)和Cu(Ⅱ)的3,3',3'',3'''-四硝基酞菁配合物化学修饰电极(ML CME),研究了它们对联氨氧化的电催化作用,发现当电位扫描区间为-1.2—0.6V时,它们对联氨的氧化都有明显的电催出作用;而当电位扫描区间为-1.2—0.0V时,只有FeL CME和CoL CME具有明显的电催化作用.FeL CME和CoL CME对联氨的氧化不仅电催化活性高,而且稳定性也很高,具有很好的重复性,联氨电催化氧化峰电流与联氨浓度有良好的线性关系.初步拟定了ML CME电催化氧化联氨的机理. 相似文献
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