热丝辅助双偏压氢等离子体制造金刚石锥状表面研究

利用热丝辅助双偏压氢等离子体对化学气相沉积金刚石薄膜进行了纳米尺度上的表面改装,制造出锥状金刚石列阵.金刚石薄膜内在的柱状结构使氢离子在刻蚀薄膜时产生非均匀的刻蚀速率,对锥状表面的形成起着重要作用.另一方面,溅射出的含碳粒子会发生二次沉积,最终的特征表面形貌取决于刻蚀与含碳基团再沉积之间的相互竞争.栅极的使用影响基底区域放电的伏安特性,改变栅极电流可以对形成的金刚石特征表面结构进行有效调节.在处理过程中少量掺入甲烷,提高了金刚石表面附近的含碳基团浓度,促进二次成核,进而诱发均匀分布的锥状列阵. 关键词： 等离子体 表面 金刚石薄膜     

数字喷墨印刷关键技术及其实现

经过20多年的完善与发展，喷墨技术已经成为大幅面广告印刷行业的主要印刷技术。随着图书按需印刷需求的快速扩张以及国家环保政策的迅速落地，喷墨印刷技术作为一项高效环保的数字化印刷技术，得到越来越高的关注，业内普遍认为喷墨印刷技术将是数字化印刷的必然发展趋势。然而与已经成熟的多Pass喷墨印刷设备不同，单Pass喷墨印刷设备在数据带宽、数据在线重构、高精度同步控制、喷嘴在线补偿等方面有着极高的技术要求。本文首先简要介绍了喷墨技术，然后针对单Pass喷墨印刷设备需要解决的技术问题提出了相应的解决方案。依据本文技术设计的单Pass书刊喷墨印刷机已经投放市场，并且获得了用户的普遍认可。     

电子回旋共振-射频双等离子体沉积氧化硅薄膜过程中的射频偏压效应

本文利用六甲基乙硅氧烷(HMDSO)和氧气(O2)为反应气体,利用微波电子回旋共振-射频双等离子体化学气相沉积法沉积氧化硅薄膜,并利用发射光谱对等离子体特性进行原位诊断.研究表明,RF偏压对氧化硅薄膜沉积速率和薄膜中的化学键结构产生有意义的影响.小的直流自偏压会略微提高沉积速率;但随着直流自偏压的增加,离子轰击效应及刻蚀作用加强,薄膜的沉积速率下降.在13.56MHz和400kHz两个不同射频频率条件下所沉积的薄膜中,O和Si的比例基本相同,均超过2∶1;但400kHz射频偏压下薄膜中的碳成分比例比13.56MHz条件下的要高得多.这可以归因为高的射频偏压的应用不仅可增强离子轰击效应,而且与体等离子体相互作用,使高活性的氧原子增多;而低频偏压的作用主要是增强离子轰击效应.     

Diagnostics of Atmospheric Pressure Surface Discharge Plasmas in Argon

Atmospheric pressure surface discharge is shown to have great prospects for a number of industrial applications.To acqu/re better results in application fields and considering that the study of the basic parameters includingelectron temperature and electron density is desirable, we develop an equivalent circuit model and the diagnostictechniques based on optical emission spectroscopy and electrical measurement in our laboratory. The electrontemperature has been determined to be about 0.7eV by a Fermi-Dirac model. The electron density has beencalculated to be near 10^10 cm^-3 from a time resolved electrical measurement (Ohmic heating method).     

热阴极直流放电等离子体化学气相淀积金刚石膜过程中等离子体环境的研究 *

利用光发射谱和Langmuir探针对热阴极直流放电等离子体化学气相淀积(PCVD)金刚石薄膜的等离子体环境进行了原位诊断 ,根据探针和光谱诊断结果定量地计算了在放电电流密度变化过程中基态氢原子和基态CH基团数密度的变化 ,发现基态和激发态的原子氢和CH基团的数密度均因放电密度增加而提高 .电子密度、CH发射的相对强度均随放电电流密度的增加而线性增加 ,而不同的含碳活性粒子的产生与电子温度的升高有关 .将诊断结果与金刚石的生长相联系 ,表明激发态的原子氢的产生促进了金刚石的生长 ,等离子体环境中电子温度和密度的增加对金刚石生长速率提高起着重要的作用 .