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1.
以阿拉伯糖为碳源,介孔硅(SBA-15)为模板剂,用硬模板法制备有序介孔碳材料,采用场发射扫描电镜(Scanning Electron Microscopy,SEM)、透射电子显微镜(Transmission Electron Microscope,TEM)、全自动比表面及孔隙度分析仪(Brunner Emmet Teller,BET)、X射线衍射(X-ray Diffraction,XRD)、X射线光电子能谱(X-Ray photoelectron spectroscopy,XPS)对材料进行表征。用滴涂法将有序介孔碳悬浊液滴在裸玻碳电极表面,得到有序介孔碳修饰电极。用循环伏安法来研究盐酸奈福泮在有序介孔碳修饰的玻碳电极(Glassy Carbon Electrode,GCE)上的电化学行为。在最佳条件下,盐酸奈福泮浓度在1.0×10-8~1.0×10-5mol·L-1范围内与峰电流呈线性关系,相关系数为R2=0.9932,检出限为3.2×10-9 mol·L-1。对盐酸奈福片中盐酸奈福泮进行了检测,样品加标回收率为96.84%~102.50%,RSD<5.0%。  相似文献   
2.
分别以三聚氰胺、尿素和乙二胺为氮源,阿拉伯糖为碳源,介孔硅(SBA-15)为模板剂,通过硬模板法成功制备了不同氮掺杂的介孔碳(N-CMK-3)。采用场发射扫描电镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)、全自动比表面及孔隙度分析仪(BET)、X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)对不同材料进行表征。将N-CMK-3滴涂至玻碳电极表面构建电化学传感器,采用循环伏安法(CV)对N-CMK-3修饰电极的电化学行为进行考察。考察了修饰剂的用量和pH值对盐酸奈福泮电化学行为的影响。结果表明,在修饰剂量为6 μL和pH 4.5的最佳实验条件下,盐酸奈福泮的氧化峰电流值与其浓度在1.0 × 10-8~5.0 × 10-6 mol/L范围内呈良好的线性关系,r2 = 0.992,检出限(S/N = 3)为5.3 × 10-9 mol/L。此方法可用于盐酸奈福泮片的测定,加标回收率为95.9%~100%。  相似文献   
3.
以MOF-5为前驱体,葡萄糖为额外碳源,采用静电纺丝技术,将糖基MOF-5纳米颗粒和聚丙烯腈混纺,经过高温碳烧,成功合成糖基MOF-5碳纳米纤维(Glc-MOF-5/MCNFs)。采用场发射扫描电镜(Scanning Electron Microscopy,SEM)、透射电子显微镜(Transmission Electron Microscope,TEM)、全自动比表面及孔隙度分析仪(Brunner Emmet Teller,BET)、X射线衍射(X-ray Diffraction,XRD)、X射线光电子能谱(X-Ray photoelectron spectroscopy,XPS)对材料进行表征。采用差分脉冲伏安法(DPV)对木犀草素的电化学行为进行研究,优化影响木犀草素电化学行为的修饰剂用量、富集电位、富集时间、pH。在最优条件下,木犀草素在Glc-MOF-5/MCNFs/GCE上的检测范围为9.0×10-9~5.0×10-6 mol·L-1,相关系数为R2=0.9954,检出限为5.2×10-9 mol·L-1,将此传感器用于实际样品检测,回收率为96.34%~100.58%。  相似文献   
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