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微波辐射合成含三苯基吡啶结构超支化聚酰亚胺及其光学性能的研究 总被引:1,自引:0,他引:1
利用自己合成的含三苯基吡啶结构的BB′2型芳香三胺TAPP与A2型的二酐3,3′,4,4′-二苯酮四羧酸二酐(BTDA)在微波辐射下经"两步法"分别合成了氨基封端和酐基封端的新型超支化聚酰亚胺(AM-HBPI和AD-HBPI).通过FTIR、1H-NMR、XRD、TGA、溶解性试验以及UV-Vis和荧光光谱等对产物进行了一系列的结构表征和性能测试.结果表明,两种新型的含三苯基吡啶结构超支化聚酰亚胺(HBPI)在强极性非质子溶剂中均显示出良好的溶解性,对无机稀酸也具有一定的抗腐蚀性;它们还体现出优异的耐高温性,在N2中的10%热失重温度(T10%)分别高达573℃和568℃.除此之外,AM-HBPI和AD-HBPI还分别在200~400nm和200~350nm具有良好的紫外光吸收性能,以及紫、蓝色荧光发射性能.而且它们被HCl质子化后的紫外光吸收谱带均扩宽至425nm,荧光发射峰的强度也大大增强. 相似文献
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