辉光光谱测定钢表面渗硼层中硼与合金元素的分布

用辉光放电发射光谱测定了钢表面渗硼层中硼与其它合金元素的分布。研究并提出了改善层间分辨力的措施,从而得到了更准确的分辨轮廓。并讨论了渗硼层中合金元素重新分布的规律。     

氯硅烷的气相色谱分析

采用涂邻苯二甲酸二乙酯的气相色谱柱对用化学气相沉积法制备ＳｉＣ纤维的主要原料——氯硅烷直接进样分析,在较短的时间内即可得知每批原料的差异。实验表明,方法操作简便、快速,重复性和精密度较好,重复６次的变异系数均＜１％。可用于ＳｉＣ纤维原料的质量监测。     

辉光放电发射光谱逐层定量分析

Grimm辉光放电灯已被用于发射光谱逐层分析。由于样品成份随深度急剧变化,很难找到成份与其相近的标准来标定元素含量,有时只给出了定性结果。本文提出了一种新的标定方法。我们用辉光放电和原子发射光谱的基本理论分析了辉光灯中的溅射和激发过程。在固定放电电压和气压的条件下,得到了一个新的标定公式: I=K(gAC) 式中I、C、g、A分别是分析元素谱线强度,溅射表面该元素的含量,溅射率和放电电流,K是个与其它元素的存在无关的比例系数。g和A都会因样品成份不同而有差别,这说明它们代表了样品中的基体和共存元素影响。但是它们可以在实验中测量。这样就可以用纯金属或不同基体的合金作为标准来标定被测样品溅射表面的元素含量,进行逐层定量分析。当用摄谱法时,相应的公式为: S=γlog(gACt)+k 式中S,γ,t分别代表谱线黑度,干板反衬度和暴光时间。     

一种新的发射光谱光源辉光放电灯的研制

自从一九六七年Grimm设计了一种结构特殊的辉光放电灯作为发射光谱分析的光源以来,辉光放电光源逐渐引起光谱分析工作者的注意和研究。这种光源的取样和激发机理与惯用的电弧、火花等光源有所不同。它稳定性好,共存元素影响小,谱线自吸收小,并且能对试样表面逐层地取样分析。这使它在高含量合金成份的分析和表层分析方面显示出较大的优越性。我们已研制出这种光源,对它的工作参数、性能及其相互关系进行了初步研究,并与摄谱法配合作了金属表层逐层分析,效果较好。一、设备全部设备由辉光灯、供气系统和稳压电源三部分组成。