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首先通过两步法,以甲基咪唑、氯代正丁烷和六氟磷酸钾为原料合成了基础液1-丁基-3-甲基咪唑六氟磷酸盐(BMIMPF_6),然后向基础液中加入氯化铜,研究了铜电沉积的电化学行为.采用循环伏安测试法研究了二价铜离子在该体系中的氧化还原电化学历程,并分析了其动力学参数及可逆性.采用计时电流测试法研究了该体系中铜的形核生长机制.使用扫描电子显微镜[SEM(配置能谱仪,EDS)]及X射线衍射仪(XRD)对该体系中沉积层的生长形貌及成分进行了分析.结果表明,铜在该体系中的氧化还原为非可逆过程,其中第一还原阶段为可逆过程,第二阶段的第三步为不可逆过程,其对应的扩散系数为3.743×10~(-6)cm~2/s;该体系中铜的电结晶机理为受扩散控制的三维瞬时形核生长;铜沉积层在形核后堆积长大呈花斑状,形成铜单质沉积层. 相似文献
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