抗有机杂质镀镍添加剂对阴极极化性能的影响

研究了有机杂质以及抗有机杂质添加剂对镀镍过程中阴极极化性能的影响．实验结果表明，有机杂质增大了阴极极化，而抗有机杂质添加剂却能减小阴极极化．实验结果还显示，添加剂消除有机杂质污染的效果同其降低阴极极化的能力密切相关     

全光亮镀铁工艺的研究

介绍了一种新型的电镀光亮镀的工艺,使用了“抑氢剂”,并用小槽电镀,Hull Cell实验研究了镀液的性能,还运用线性电位扫描法,旋转圆盘电极法测试了镀液的阴极极化性能和整平性能,采用SEM法观察镀层的形貌,实验结果表明：光亮剂的加入可增大铁沉积时的阴极极化,并伴有整作用,而抑氢剂可增大氢在铁上析出的过电位,从而可提高铁沉积的电流效率并降低镀层的应力。     

二维锌枝晶生长行为研究

采用恒电压方法得到了不同电解质浓度和电压下金属锌二维电沉积生长的形貌分布图．在枝晶生长条件下,研究了支持电解质、全氟表面活性剂和脉冲电压等对锌枝晶生长行为的影响，并检测了电解池中Zn^2 的浓度分布．实验结果表明：支持电解质、表面活性剂和脉冲电压改变了阴极附近的电场分布和Zn^2 的浓度分布，对沉积物形貌产生很大的影响．同时发现，Zn^2 仅通过电迁移作用到达阴极附近，扩散对传质的贡献可忽略不计．     

2-巯基噻唑啉和咪唑在无氰碱性镀锌中的作用

运用阴极极化法、旋转圆盘电极法和赫尔槽试验法研究了２－巯基噻唑啉、咪唑在无氰碱性镀锌中的作用．结果表明：２－巯基噻唑啉在高电流密度区增大了阴极极化,并在一定浓度范围内具有正整平能力;而咪唑在低电流区有去极化作用、在高电流区有增大极化作用．因而,它们对镀液的分散能力都很有利     

有关复合电沉积机理研究

介绍了微粒前处理、电流密度、微粒浓度、搅拌、pH值等工艺参数以及微粒表面电荷对电沉积复合镀层的影响,回顾了Guglielmi模型、MTM模型等复合电沉积机理的发展和现状．     

微酸性体系电沉积光亮锡钴锌合金的研究

本文提出了一种电沉积光亮锡钴镜三元合金的新工艺，其溶液组成及操作条件为：Ｎａ３Ｃ６Ｈ５Ｏ７．２Ｈ２Ｏ１００－１５０，Ｎａ２ＥＤＴＡ．２Ｈ２Ｏ２０－３０，ＳｎＣｌ２．２Ｈ２Ｏ１５－２０，ＣｏＳＯ４．７Ｈ２Ｏ２５－３５，ＺｎＣｌ２１５－２０ｇ．Ｌ＾－１；稳定剂ＷＤＺ－１ ６０－１００，光亮剂ＷＤＺ－２１５－２０ｍＬ．Ｌ＾－１，ｐＨ＝４－６，Ｄｋ＝０．５５。０Ａ．ｄｍ＾－２，Ｔ＝５－３５℃。在此条件下可     

全硫酸盐体系三价铬电镀铬的研究

研究了全硫酸盐体系三价铬电镀铬的工艺．实验表明：溶液的pH值、温度、搅拌、电流密度等工艺条件都会影响镀层质量及外观，其中pH值升高是铬结晶层无法增厚的一个主要原因．当Cr(Ⅵ)的浓度≥10mg／L时会对镀层的外观及质量产生影响，甚至无镀层．加入稳定剂能抑制Cr(Ⅲ)向Cr(Ⅵ)的转化．在全硫酸盐体系三价铬电镀铬中，加入光亮剂前后铬的电结晶机理不会改变．均遵循瞬时成核机理．     

Ni-纳米TiO2微粒复合电沉积研究

在Watts型镀镍液中，分别加入粒径为80—100nm的TiO2的两种同质异构体：金红石型和锐钛型，得到了Ni-纳米TiO2微粒的复合沉积层．研究了电沉积工艺体系的pH值、电流密度、搅拌速度、镀液中TiO2的含量及添加剂对复合沉积层的表观和沉积层中TiO2含量的影响，确定了最佳工艺条件．通过能量色散谱和SEM，对复合沉积层成分及形貌分析，在最佳组成及工艺条件下，得到了复合微粒重量为5％-10％，且表观形貌良好的Ni—TiO2复合沉积层。     

无氰体系中电沉积光亮铜锡合金的研究

提出了一种无氰电沉积光亮铜锡合金的新工艺．其溶液组成及操作条件为：Ｎａ３Ｃ６Ｈ５Ｏ７·２Ｈ２Ｏ９０～１２０，Ｎａ２ＥＤＴＡ·２Ｈ２Ｏ２５～３５，稳定剂ＷＤＺ－９４３１０～１５，ＣｕＳＯ４·５Ｈ２Ｏ２０～４０，ＳｎＣｌ２·２Ｈ２Ｏ２０～４０ｇ·Ｌ－１；溶液的ｐＨ＝５～６，Ｄｋ＝１０～１５０Ａ·ｍ－２，Ｔ＝５０～６０℃．在上述条件下可获得含锡量为５％～１５％的光亮、细致、均匀的铜锡合金沉积层．还讨论了溶液的温度、阴极电流密度对合金沉积层中锡量以及阴极电流效率的影响．     

光亮剂对银电沉积行为的影响

用电势阶跃法和旋转圆盘电极法 (RDE)以及SEM和XRD测试手段 ,初步研究了光亮剂对氰化体系中银电沉积行为的影响 .研究表明 ,光亮剂的加入并未导致银电沉积成核机理的改变 ,但显著增强了镀液的微观平整效应 ,并且所得镀层的表观光滑程度明显改善 .XRD测试亦同时表明光亮剂的加入并未改变镀层的择优取向