双棱镜干涉实验难点解析

总结了双棱镜干涉实验的调整难点及原因。提出解决的措施并对要点进行研究分析,收到良好效果。提出评价学生调整光路质量的方法。     

在Si(100)上以AlN作过渡层低温外延生长ZnO薄膜

采用脉冲激光沉积(PLD)方法在Si(100)上成功生长了高度c轴取向的AlN薄膜,并以此为衬底,实现了ZnO薄膜的低温准外延生长.通过X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)以及荧光分光光度计表征ZnO薄膜的结构、表面形貌和发光性能.结果表明,ZnO薄膜能在AlN过渡层上沿c轴准外延生长,采用AlN过渡层后,其荧光强度也有大幅提高.     

Mg掺杂ZnO薄膜的结构和光致发光性能的变化

为深入了解ZnMgO合金薄膜的结构与发光性能的关系,采用ZnO和MgO粉末球磨、冷压成型后再高温烧结的方式制靶,在石英基底上室温射频磁控溅射制备了Mg含量0%～8% (原子数分数) 的ZnMgO薄膜,然后于400 ℃空气退火。采用X射线衍射仪表征薄膜的晶体结构,场发射扫描电子显微镜及附带的X射线能谱仪(EDS)观测薄膜颗粒形貌和化学成分,荧光分光光度计测试光致发光(PL)谱。结果发现:ZnMgO合金膜为纤锌矿hcp结构的固溶体,随Mg含量增加,形貌由近似圆形变为圆形和无规则多边形混合型,原因是(002)晶厚失去主导且长大速率被(101)和(110)超过;PL谱出现一个强的紫光峰(390～393 nm)和一个微弱的近红外峰(758～765 nm);随Mg含量的增加,紫光峰位先蓝移后红移,近红外峰位则发生红移;400 ℃空气退火后,所有峰位红移,强度显著增大。对退火处理前后出现的紫光峰和近红外峰的来源和变化规律进行了机制探讨。     

合金渗碳体稳定性研究

依据固体与分子经验电子理论,建立“实际晶胞模型”,采用统计法计算合金元素M（Cr、V、W、Mo、Mn）取代渗碳体（θ-Fe₃C）不同位置和数目的Fe¹、Fe²后的价电子结构.定义稳定性因子P并讨论分析不同位置、数目和类型的Fe原子被M取代后,P的变化规律.结果表明：晶格电子密度、原子键对称性和键能,对稳定性有重要影响;M取代Fe²比取代Fe¹稳定,Cr、Mo、W、V成对取代2、3或6、7位置的2个Fe²最稳定;合金渗碳体的稳定性按W、Cr、V、Mo、Mn的顺序递减.