介孔二氧化钛的制备及铜（Ⅱ）对其光催化氧化活性的影响

采用十六烷基三甲基溴化铵为模板剂,钛酸正四丁酯为原料,水热法合成出孔径为4.4 nm介孔二氧化钛.通过X射线粉末衍射仪、透射电子显微镜和氮气吸附技术对样品进行了表征.以甲基橙为模型化合物,考察了铜(Ⅱ)对介孔二氧化钛光催化活性的影响,研究表明:介孔二氧化钛的光催化活性与P25纳米二氧化钛相当,铜(Ⅱ)的加入提高了介孔二氧化钛的光催化活性,甲基橙的光催化降解速率与光强度成正比.     

强电离放电气体洗消DMMP机理研究

利用强电离放电气体对神经性化学战剂模拟剂甲基磷酸二甲酯(DMMP)进行洗消. 强电离放电气体可以迅速降解DMMP, TOC也有明显下降. 自由基促进剂和抑制剂对DMMP的降解效率有明显影响, 降解以自由基反应为主. 活性极高的羟基自由基可以无选择地攻击DMMP中的CH₃—P、P—OCH₃、O—CH₃等基团, 生成磷酸酯类、甲基磷酸酯类、甲基磷酸、、CO₂等中间产物, DMMP最终可能被矿化. 推测强电离放电气体洗消DMMP主要有四条反应路径.     

强电离放电等离子体中活性物种的检测

利用氧化还原滴定法检测了强电离放电等离子体中活性物种,用以衡量等离子体的表观氧化能力。分别考察了pH值、放电气体流量、放电功率、放电气体压力、反应时间等因素对检测的影响。在pH＝6.0,反应时间3 min优化条件下,随放电功率增加,等离子体中活性物种浓度增加;放电气体流量增加,等离子体中活性物种浓度下降;放电气体压力增加,等离子体中活性物种浓度增加。本方法设备简单、再现性好,灵敏度高,检出限为3.91×10^-5 mol/L。     

盐酸介导策略合成的具有优异光催化能力的ZnFe2O4小颗粒点缀一维苝二酰亚胺S型异质结

由于有机材料的结构多样性,越来越多的研究者选择有机材料作为光催化剂.典型的n型有机半导体花二酰亚胺(PDI)不仅在可见光照射下有较强的光响应能力,而且有合适的带隙和负导带,使得光激发电子具有较强的还原能力.半导体光催化剂的适用性受到光生载流子复合的限制,而构建S型异质结可有效保证电荷分离,也可保证空穴和电子的强氧化能力...