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1.
丘思畴  戴进 《发光学报》1996,17(1):58-63
采用直流溅射Ni(OH)2粉末压实靶制作了电致变色膜.介绍了制膜工艺,用XRD谱研究了着色前、后膜的结构,XPS谱研究Ni、O的结合.谱响应特性和电化学特性表明,膜的电色活性良好.  相似文献   
2.
直流溅射法制备电致变色WO_3膜   总被引:3,自引:0,他引:3  
采用WO3陶瓷靶直流溅射制作了电致变色膜.介绍了制膜工艺.分析测试表明,膜有无定形结构;除有正常成分WO3外,还含有来自衬底及反应室内的微量杂质.电致变色谱响应特性和电化学特性的测量证明,膜的电色活性良好.还对实验结果作了理论分析.  相似文献   
3.
运用循环伏安和阶跃电位方法研究了Ni(OH)2粉末靶直流溅射沉积的NiOxHy薄膜电致变色特性.结合实时的光透射-时间变化,发现着色后的薄膜在零外电势下有一自发的消色过程,该过程可能对应着Li 的自发注入。着色没有自发过程,获取了着消色状态Ni2p3/2和O1s的XPS谱,表明在着色态镍被氧化,消色态镍被还原,相应地氧的化学环境发生改变.  相似文献   
4.
直流溅射法制备电致变色WO3膜   总被引:2,自引:0,他引:2  
丘思畴  黄汉尧 《发光学报》1994,15(2):127-135
采用WO3陶瓷靶直流溅射制作了电致变色膜.介绍了制膜工艺.分析测试表明,膜有无定形结构;除有正常成分WO3外,还含有来自衬底及反应室内的微量杂质.电致变色谱响应特性和电化学特性的测量证明,膜的电色活性良好.还对实验结果作了理论分析.  相似文献   
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