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1
1.
两种方法制备ITO薄膜的红外特性分析
总被引:7,自引:1,他引:6
周平
黄昱勇
林宇翔
李海峰
刘旭
顾培夫
《光子学报》
2002,31(8):985-988
比较了用电束加热蒸发法和直流磁控溅射法制备的氧化锡铟(ITO)薄膜在红外波段的光学特性实验发现,通过直流磁控溅射在常温下制备的ITO薄膜在红外波段折射率稳定、消光系数小,比电子束加热蒸发制备的膜有较高的透过率在波长1550nm附近的透过率可达86%以上,消光系数约为004,方电阻最低为100Ω/□.
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