离子束成膜技术

本文简要介绍了几类离子束成膜技术:离子束沉积和外延;离子束辅助沉积和离子蒸发沉积;集团离子束沉积;离子束溅射沉积。     

射线辐照的工业应用

核技术应用中,除了原子能发电外,第二个重要的方面就是射线辐照加工。1983年,估计辐照加工产值约为20—30亿美元,并以每年15—20%的速度增长。辐照加工一般用电子加速器和~(60)C0γ源进行辐照。     

离子束成膜技术

本文简要介绍了几类离子柬成膜技术：离子束沉积和外延；离子束辅助沉积和离子蒸发沉积；集团离子束沉积；离子束溅射沉积。     

同位素仪表在工业中的应用

用放射性同位素装置的仪表是非接触式测量,因其体积小、精度高、可自动化测量,在工业中得到广泛的应用,产生了较大的经济效益。一些工业发达的国家,早在六十年代就开始应用。据1962—1964年统计,美国装备的仪表有8000—9000台,英国有2037台,法国有1465台。据1982年统计,日本约有11000台。     

激光微探针──激光激发离子质量分析器

近年来英国、法国、联邦德国三国又发展了一种新的分析技术,叫做激光微探针──激光激发离子质量分析器.激光微探针有一系列优点:(1)能进行全元素分析.(2)灵敏度高,相对探测极限可到0.1ppm,绝对探测极限可到10-20g.(3)空间分辨好,横向分辨可到1μm,深度分辨可到20nm.(4)质量分辨好,M/△M=500.(5)分析速度快,分析一个点只要100μs,比其他技术快105倍.(6)能分析固体、液体和气体佯品.能分析mm级厚样品和nm级薄的样品,但这种技术的缺点是:(1)定量精度较差,现在达到的最好精度为0.1%.(2)对样品不是无损分析. 激光微探针能进行1μ m3体积的微区…     

用离子技术合成类金刚石薄膜

用离子技术合成的类金刚石碳膜(i-C膜)具有一系列优良的性能:高的绝缘性,电阻率为10～7-10～(14)Q·cm,电导率有负的温度系数(10～(-2)-10～(-4)℃～(-1));高的介电强度,击穿电压约10～6V·cm～(-1),介电常数为8-12;较高的硬度,显微硬度高于3000kg/mm～2;较好的光学透射性,有大的光带隙(1—2.6eV),可以掺杂成n型或P型材料;对酸和有机溶液呈化学惰性;折射率为2-2.8,密度约为2g/cm3[1] i-C膜已有一些初步的应用,但由于膜中的内应力较大,不能合成较厚的膜,影响大规模应用.国外在这方面的研究十分活跃,日本将它列为100项(其中材料占13项)开发…     

集团离子束成膜技术

1972年,日本京都大学电子学系的高木俊宜等人提出了一种新的成膜技术,叫做集团离子束成膜技术.这种技术有一系列优点:成膜速度快,每分钟可达数十毫微米到数微术.膜的密度接近大块物质的密度,膜和基板的附着力强.可以控制生成膜的性质,可以在较低基板温度下生成单晶膜、非晶膜、     

磁性流体及其应用

磁性流体是一种强磁性液体,是用 100以下的F3O4等磁性微粒稳定地分散在水和油中形成的磁性胶体溶液,在重力和磁场的作用下也不发生凝聚和沉淀. 1965年美国的Papell首先研制成功磁性流体.在七十年代后期,美、日、苏和英等国的研究工作迅速发展,美国还成立了专门生产磁性流体和开     

等离子体金属表面硬化技术

等离子体金属表面硬化技术是利用等离子体对金属表面进行渗氮、渗碳和渗硼处理,以提高金属表面的硬度和耐磨、耐蚀、耐疲劳等性能.在七十年代初期,等离子体氮化商用设备投放市场,使这项技术进入了工业使用,现已成为一项成熟的技术.美国、英国、联邦德国和法国等已生产微机控制的等离子体氮化设备. 在表面硬化处理零件中,氮化约占20%,碳化约占80%[1],因此等离子体碳化技术也发展起来,近年来开始进入工业应用,美国、法国和联邦德国等已建立了工业应用的微机控制等离子体碳化设备[2]. 1984年5月在伦敦召开的金属学会热处理会议上,与会科学家和…