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介绍了高纯二氧化锆中痕量杂质元素Ｆｅ，Ｎａ，Ｓｉ，Ｔｉ的ＩＣＰ－ＡＥＳ测定方法。样品以浓Ｈ２ＳＯ４及（ＮＨ４）２ＳＯ４溶解，采用空白背景校正法消除基体Ｚｒ的光谱干扰，以基体匹配法补偿基体效应。各元素平均回收率为９５％－１０６％，相对标准偏差为１．３％－３．０％。 相似文献
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在高纯氧氯化锆制取过程中絮凝剂对“二次除硅”的影响 总被引：1，自引：0，他引：1
高纯氧氯化锆是制取高纯锆化学品的重要原材料，目前国内外多采用锆英石为原料碱熔法生产，硅的去除分两步进行：第１步是用水浸洗碱熔分解产物，大约有８５％～９０％的硅以硅酸钠的形式进入水浸液，余下ＳｉＯ２需要“二次除硅”．因此，要生产高纯产品，“二次除硅”是... 相似文献
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