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背景:学校模拟网上阅卷,在阅卷过程中收获颇多,学生们的解题方法和思维方式五花八门,不管是正确的还是错误的,远比出卷者预测的要多,有些考生的解题思维远比我们教师想象的要好,他们大胆的猜想和论证给了我不少震动和启发.我被分到第七组,批改第27题(共7人),当时碰到一份考生的试卷解法比较奇特,个人认为是正确的,但有3人否定、2人疑惑、一人不语.于是查找资料,思索探讨,从而就有了下面的论证过程. 相似文献
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用二氧化钛、二氧化硅和氟化镁膜料镀制0.4μm~1.1μm超宽带增透膜 总被引:1,自引:0,他引:1
对0.4μm~1.1μm超宽带增透膜的镀制工艺进行了研究。根据长期从事该工作的经验和对膜料性能的研究,结合国产设备的实际情况,在膜料的选取上主要考虑其透明光谱区域、折射率、材料的蒸发方式、机械特性、化学稳定性及抗高能辐射等因素;最终选择用二氧化钛、二氧化硅和氟化镁3种常用膜料镀制0.4μm~1.1μm超宽带增透膜。涉及该膜系的膜层共有8层,结构为:玻璃■H■M■H■M■H■M■H■L■空气■。制作工艺方便简单、稳定,制做的膜层具有较好的光谱和机械性能,满足光电仪器实际使用要求。 相似文献
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对0.4μm-1.1μm超宽带增透膜的镀制工范进行了研究。根据长期从事该工作的经验和对膜料性能的研究,结合国产设备的实际情况,在膜料的选取上主要考虑其透明光谱区域、折射率、材料的蒸发方式、机械特性、化学稳定性及抗高能辐射等因素;最终选择用二氧化钛、二氧化硅和氟化镁3种常用膜料镀制0.4μm-1.1μm超宽带增透膜。涉及该膜系的膜层共有8层,结构为:│玻璃│H│M│H│M│H│M│H│L│空气│。制作工艺方便简单、稳定,制做的膜层具有较好的光谱和机械性能,满足光电仪器实际使用要求。 相似文献
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降低微通道板输入面电极反射率的技术途径 总被引:1,自引:0,他引:1
为了降低透明或半透明光电阴极的光子在微通道板输入面上引起的散射噪声,通过对微通道板输入面蒸镀Ni-Cr电极后对反射率影响的定性分析以及镀膜方式、镀层厚度、电极深入通道内的深度和微通道板的开口面积比等测试分析,在兼顾微通道板对输入电极其他要求的前提下,获得了降低反射率的有效技术途径,即:采用电子束加热的蒸镀方式,用表面电阻大小来间接表征膜层厚度,使其控制在100 Ω左右;电极深入通道内的深度为通道直径的35%;微通道板的开口面积比尽可能大些,可把反射率降低到4%以下,以此降低微光像增强器的光子散射噪声。 相似文献
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分析用双星点定焦法测量平面光学元件最小焦距时影响测量精度的因素,指出测量中应注意的问题。 相似文献