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1.
采用Wittig试剂与环氧氯丙烷和多聚甲醛构建亚甲基环丙烷结构单元,利用2,5-二乙氧基-3,6-二氢吡嗪引入氨基酸结构单元,通过6步反应成功实现了天然植物毒素Hypoglycin A外消旋体的全合成,总收率3.2%.中间体和Hypoglyein A的结构经1H NMR表征.对反应中的问题进行了分析和讨论.  相似文献   
2.
采用Wittig试剂与环氧氯丙烷和多聚甲醛构建亚甲基环丙烷结构单元,利用2,5-二乙氧基-3,6-二氢吡嗪引入氨基酸结构单元,通过6步反应成功实现了天然植物毒素HypoglycinA外消旋体的全合成,总收率3.2%。中间体和Hypoglycin A的结构经^1HNMR表征。对反应中的问题进行了分析和讨论。  相似文献   
3.
肖啸  张志友  肖志刚  许德富  邓迟 《物理学报》2012,61(11):114201-114201
银层超透镜对基于表面等离子体激元的超分辨光刻、 成像和生物传感有着重要作用.利用银层超透镜的光学传递函数详 细研究了银板的表面等离子体激元共振和成像特性, 并利用时域有限差分法计算模拟了银层超透镜的成像过程, 得到与理论推导公式相符合的结果, 证明了光学传递函数的可靠性, 为基于表面等离子体激元的传感器件、 超分辨成像以及辅助增强干涉光刻提供了快速参数优化方法.  相似文献   
4.
本文通过湿法化学还原法合成了平均粒径为4.42nm、标准差为0.98nm的球形银纳米颗粒,并研究了在不同反应时间后获得的银纳米颗粒对PVP和Alq3的荧光猝灭效应。通过深入研究发现,PVP的荧光猝灭效应主要由于其分子链上的酮基与Ag颗粒之间发生了静电吸附,进而导致处在激发态的PVP分子与银颗粒之间产生电子或者能量转移(即非辐射弛豫),猝灭了PVP的荧光发光;而Alq3的荧光猝灭效应则主要归因于银纳米颗粒的欧姆损耗。通过采用时域有限差分法进行模拟发现,溶液中随机分布的银纳米颗粒,不仅能够吸收激发电磁波,削弱激发场强度,而且能够吸收荧光分子辐射的电磁波,进而猝灭了Alq3分子的荧光效应。这些研究成果将有利于了解金属纳米颗粒与PVP及Alq3分子荧光发光之间的关系,为调控荧光发光提供指导。  相似文献   
5.
用灰阶编码掩模制作折/衍混合微光学元件   总被引:1,自引:0,他引:1  
设计了消色差的折,衍混合微光学元件的灰阶掩模,该掩模对光刻过程中的畸变进行了预校正,并给出了模拟计算的的结果。  相似文献   
6.
A 1550-nm linearly tunable continuous wave (CW) single-mode external cavity diode laser (ECDL) based on a singlecavity all-dielectric thin-film Fabry-Pérot filter (s-AFPF) is proposed and realized in this paper. Its internal optical components as well as their operation mechanisms are introduced first, and then its longitudinal mode output characteristic is theoretically analyzed. Afterwards, we set up the experimental platform for the output characteristic measurement of this tunable ECDL; under different experimental conditions, we execute accurate and real-time measurements for the output central wavelength, output optical power, output longitudinal mode distribution, and the line-width of the tunable ECDL in its tuning process. By summing up the optimal experimental condition from the measured data, we obtain the optimal tunable ECDL relevant parameters: the tunable ECDL has a linear mode-hop-free wavelength tuning region of 1547.203 nm-1552.426 nm, a stable output optical power in the range of 40 μW-50 μW, and a stable output longitudinal mode distribution of a single longitudinal mode with a line-width in the range of 100 MHz-150 MHz. This tunable ECDL can be used in environmental gas monitoring, atomic and molecular laser spectroscopy research, precise measurements, and so on.  相似文献   
7.
本文提出了一种石墨烯薄膜的自组装制备技术,获得了高导电、高透明的均匀石墨烯薄膜,并对其进行了参数测试和光谱特性研究。研究表明此方法制备的石墨烯薄膜具有杂质含量少、高导电、高透明、膜厚均匀可控等优点,其平均透过率达到80%,方阻最低可达到0.2Ω/sq,在透明电极和有机光电子学领域有重要应用前景。  相似文献   
8.
肖啸  鲁远甫  于峰崎  金雷 《中国物理 B》2013,22(7):77802-077802
A 1550-nm linearly tunable CW single-mode external cavity diode laser (ECDL) based on a single-cavity all-dielectric thin-film Fabry–Pérot filter (s-AFPF) is proposed and realized in this paper. Its internal optical components as well as their operation mechanisms are introduced first, and then its longitudinal mode output characteristic is theoretically analyzed. Afterwards, we set up the experimental platform for the output characteristic measurement of this tunable ECDL; under different experimental conditions, we execute accurate and real-time measurements for the output central wavelength, output optical power, output longitudinal mode distribution, and the line-width of the tunable ECDL in its tuning process. By summing up the optimal experimental condition from the measured data, we obtain the optimal tunable relevant parameters ECDL of the tunable ECDL has a linear mode-hop-free wavelength tuning region of 1547.203 nm-1552.426 nm, a stable output optical power in the range of 40 μW-50 μW, and a stable output longitudinal mode distribution of a single longitudinal mode with a line-width in the range of 100 MHz-150 MHz. This tunable ECDL can be used in environmental gas monitoring, atomic and molecular laser spectroscopy research, precise measurements, and so on.  相似文献   
9.
部分相干分数域滤波改善光刻分辨率新方法   总被引:2,自引:2,他引:0  
基于部分相干成像和分数傅里叶变换,提出在投影光刻系统中,利用分数域滤波改善光刻图形质量的新方法.理论和模拟分析表明:在曝光成像系统中的适当位置加入分数域滤波器,能增强滤波操作的灵活性和效果,可更有效地改善光刻图形质量,为提高曝光系统的分辨力提供一种新的有效选择.  相似文献   
10.
DILL上曝光模型和MACK显影模型,编制了接触式曝光系统的厚层抗蚀剂光刻模拟软件,用其分析在理想曝光剂量条件下,抗蚀剂显影后的线宽和侧壁陡度随显影时间的变化规律,分析得出了给定厚度的抗蚀剂的显影时间,为实验工艺上严格控制显影时间提供依据。  相似文献   
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