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1.
聚二甲基硅氧烷微流控芯片的紫外光照射表面处理研究   总被引:17,自引:0,他引:17  
研究了紫外光化学表面改性对聚二甲基硅氧烷(PDMS)微流控芯片的片基间粘接力及毛细管通道电渗流性能的影响.PDMS片基经紫外光射照后,粘接力增强,可实现PDMS芯片的永久性封合,同时亲水性得到改善,通道中的电渗流增大.与文献报道的等离子体表面处理方法比较,采用紫外光表面处理,设备简单,操作方便,耗费少,是一种简单易行的聚二甲基硅氧烷芯片表面处理方法.  相似文献   
2.
微流控分析系统的安培检测器   总被引:2,自引:0,他引:2  
评述了近年来应用于微流控分析系统的电化学安培检测器。引用文献27篇。  相似文献   
3.
自Woolley等首次报道集成于玻璃芯片上的微型毛细管电泳-安培检测(Chip-based capillary electrophoresis with amperometric detection,CE-AD)系统以来,CE-AD以其高效、高速、高灵敏度以及易微型化集成化等特点引起研究者的关注.在芯片上实现柱端安培检测可用直接制作在芯片上的喷(镀)膜工作电极,或采用外置的壁喷式电极。前者集成化程度高,后者的工作电极可以更换,大大提高了芯片的重复利用率。  相似文献   
4.
采用带有可更换半自准式集束碳纤维圆盘工作电极的集成化毛细管电泳安培检测芯片,以多巴胺为模型化合物,通过考察分离电压、通道构型及电极与通道出口的间隙等参数对待测物多巴胺半波电位的影响,提出了芯片毛细管电泳-柱端安培检测系统中减小分离电压对安培检测系统干扰的措施.  相似文献   
5.
采用分子动力学模拟,研究了温度、压力和电解质溶液对CH4水合物生长速率的影响.通过分析势能、均方位移、氢键数量、径向分布函数和四体结构有序参数,表征了CH4水合物的生长动力学.模拟结果表明,降低温度和提高压力可以显著提高CH4水合物的生长速率.当压力恒为15MPa,温度高于290K时,势能升高,CH4水合物晶体发生分解;温度由290K降至260K时,势能降低,CH4水合物持续生长.当温度恒为275K,压力由3MPa增至50MPa时,CH4水合物生长速率提高12%.此外,电解质离子的存在抑制了水合物的生长,电解质溶液浓度由1.5wt%增加到3.5wt%时, CH4水合物生长速率降低25%.  相似文献   
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