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1.
断相运行问题是三相电动机运行中的最大安全问题之一,且发生频率较高,一旦发生会造成电机损坏,直接影响生产,造成较大的经济损失。通过对电机控制电路的改进和使用单片机控制技术,较好地解决了三相异步电动机的断相保护问题,取得较好的效果。  相似文献   
2.
程宏飞  佘刚  周熠 《人工晶体学报》2018,47(9):1910-1916
本文采用X射线衍射(XRD)、傅里叶变换红外光谱(FTIR)和热分析(TG-DSC)等三种表征手段,对四个不同地区高岭石样品的结构特征进行了研究.结果表明,高岭石结晶度高低顺序为:淮北>大同>龙岩>清远,Hinckley结晶度指数与脱羟基温度具有较好的相关性.利用电泳仪测定了高岭石颗粒在不同pH条件下的表面电位,并且通过线性拟合pH值-电位图得到了不同结晶度高岭石的零电荷点(PZC).进一步研究得出4种高岭石具有相近的PZC,其范围为3.2~4.3.在pH=7条件下,高岭石的表面电位与Hinckley结晶度指数呈现正相关,而PZC受结晶度指数的影响不强烈.  相似文献   
3.
目前对高岭石/二甲基亚砜(Kaol-DMSO)和高岭石/甲醇(Kaol-Me)复合物的研究大多局限于对其表面特征分析,鲜有对其脱嵌动力学特征研究的报道.本文在综合分析Kaol-DMSO和Kaol-Me复合物结构的基础上,重点针对其脱嵌动力学特征进行分析.结果表明:与二甲基亚砜(DMSO)分子依靠氢键结合在高岭石晶层间不同,甲醇(Me)分子是取代高岭石晶层八面体结构中Al-OH的-H形成甲氧基嫁接在晶层中.由于DMSO和Me在高岭石层间有着两种不同的存在状态,所以Kaol-Me复合物的活化能大于Kaol-DMSO插层复合物的活化能.活化能的大小反映了其结构的稳定性,据其活化能值推断Kaol-Me复合物的稳定性大于Kaol-DMSO插层复合物.  相似文献   
4.
高空电磁脉冲(HEMP)可通过线缆、孔缝等耦合通道进入电子设备,对各种电子化设备造成暂时甚至永久损伤。考虑到核电站的安全防护等级要求极高,因此有必要研究强电磁脉冲作用下核电站内电子系统的易损性和薄弱环节。首先确定并搭建了核电站最小安全系统模拟试验系统,包括电气、仪控系统和时钟同步系统; 搭建满足GJB 8848-2016规定的威胁级辐照试验平台; 然后对核电站最小安全系统进行辐照效应试验。利用试验数据及效应现象,初步分析了核电站最小安全系统在强电磁脉冲作用下的效应规律,发现HEMP对核电站最小安全系统具有一定程度的威胁,但未影响其核心关键职能。通过总结效应现象、分析薄弱环节和效应阈值,为接下来核电站最小安全系统的易损性评估和防护策略的制定提供依据。  相似文献   
5.
1991MRSubjectClassification35Q51,35J10,35L051IntroductionTheDavydovtheory,asolitollrjiodelforthebio-energytrallsportillgill相似文献   
6.
7.
归属于八面沸石结构(FAU)的X型沸石分子筛是一种重要的催化剂,在石油化工及吸附剂领域具有广泛应用前景,目前利用传统工艺生产的沸石分子筛价格昂贵.我国煤系高岭石资源丰富、品质优良,经过醋酸钾插层处理后,是合成X型分子筛的理想原料.本文应用X射线衍射、红外光谱、热重等多种表征技术,对高温焙烧后的高岭石/醋酸钾插层复合物进行了表征.结果表明,焙烧高岭石/醋酸钾插层复合物合成X型沸石的最佳温度为800℃,最佳浓度为30;.并进一步探讨了高岭石/醋酸钾插层复合物合成X型沸石分子筛的机理、结构以及钾离子在沸石分子筛骨架外的分布位置.  相似文献   
8.
研究了低频电磁辐射场与脑神经系统的相互作用规律及其机理。电磁辐射为非电离低频电磁场, 将脑神经细胞骨架微管(MT)中的两态物理系统进行量子化,用密度矩阵描述脑神经系统中信息位的状态, 建立并求解脑神经系统中信息位的动力学方程。 结果表明: 当非电离低频电磁辐射射向大脑时, 脑神经系统中信息位的密度矩阵非对角元在任意时刻都不为零, 能够保持较好的量子相干性, 脑神经系统的功能不会受到破坏。  相似文献   
9.
在一些问题中 ,常要处理大分子在溶液中的运动 ,阻尼现象是必须讨论的问题。针对与速度成正比的阻尼力 ,用正则变换的方法给出了一维阻尼原子链的量子化处理  相似文献   
10.
以张家口宣化高岭土为原料,制备高岭石/二甲基亚砜( dimethylsulfoxide, DMSO)插层复合物。利用X射线衍射( X-ray diffraction, XRD ),傅里叶红外光谱( Fourier transform infrared spectracopy, FT-IR ),热重-差热分析( Thermogravimetric-differential thermal analysis, TG-DTA)对制备的复合物进行表征。其中,XRD和FT-IR显示二甲基亚砜分子已进入高岭石层间,使其层间距由0.718 nm增加至1.130 nm。 TG-DTA结果表明插层复合物热相变经历以下三个阶段:二甲基亚砜分子脱嵌(约199℃),脱羟基(约522℃),高岭石重结晶(997℃)。此外,依据表征结果推测二甲基亚砜分子在高岭石层间存在形式,构建了复合物体系的结构模型,并对高岭石/二甲基亚砜插层作用机理进行了讨论。  相似文献   
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