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专业分类

物理学

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出版年

2003年

1篇

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脉冲激光沉积GaN薄膜的结构和光学特性研究 总被引：3，自引：3，他引：0

童杏林郑启光于本海秦应雄席再军路庆华《光子学报》2003,32(12):1506-1509

采用准分子脉冲激光,在Si(111)衬底上生长了带有AlN缓冲层的GaN薄膜, 利用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)和光致发光光谱(PL)等测试手段研究了不同沉积温度所生长的GaN薄膜结构特征和光学性能.研究表明:沉积温度影响GaN薄膜结构和光学性能,黄带发射峰主要与晶体缺陷有关.在400～700℃沉积范围内随着温度升高,GaN薄膜结构和光学性能提高. 相似文献