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研究了用磁控溅射方法制备的纳米结构Sm22Co78单层膜、Sm22Co78/Fe65Co35双层膜及Sm22Co78/Fe65Co35/Sm22Co78三层膜的磁性,特别是双层膜及三层膜系统中的Fe65Co35软磁层厚度d对薄膜剩磁比(Mr/Ms)和矫顽力(Hc)的影响.所有样品的磁滞回线测量表明,该系列薄膜的易磁化轴在膜面内.磁滞回线的单一硬磁相特征,说明SmCo硬磁层与FeCo软磁层之间的交换相互作用使两相很好地复合在一起.在双层膜和三层膜中,Mr/Ms随软磁层厚度d的增加单调上升,而矫顽力随d的变化出现一峰值.通过研究ΔM随磁场H的变化,发现随着软、硬磁相界面数的增加,ΔM曲线的正峰数量逐渐减少;负峰数量逐渐增强,负峰的半高宽逐渐减少.
关键词: 相似文献
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