D_4等离子体聚合物复合膜的制备、形成过程及其氧氮分离性

<正> 将高分子膜用于气体分离已越来越受到人们的重视.在特定条件下,用等离子体聚合可形成高分子超薄膜,它有高度交联结构,表面平整、致密、无针孔.因此,将它用于气体分离是有希望的.本工作用八甲基环四硅氧烷(简称D_4)作单体,进行等离子体聚合,沉积在聚丙烯多孔底膜上,得到D_4等离子体聚合物复合膜.研究表明,该膜有较好的气体透过性能,其氧气透过速率Jo_2为0.5—2×10~(-5)cm~3(STP)/cm~2·sec·cmHg,氧氮分离系数。αo/N为3.3—3.8,远远高于用经典方法制得的聚有机硅氧烷膜的αo/N2.0.     

溴代聚-4-甲基戊烯-1的溶解性能及其膜的形态结构和结晶状态

<正> 迄今为止,用于气体分离的高分子膜,其气体透过速率和选择分离系数仍不够高。究其原因,一是膜材料的气体透过系数较低;二是某些气体透过系数较高的高分子材料又难以形成超薄膜层。