国际电致发光研讨会(东德,巴德 斯图尔 1983年10月16～20日)

这次专题讨论会仍继续三年前列支(Liege)会议的课题,那次会议的文集已刊于J。Lumin.23,1—236(1981)。本次与会代表57人,其中东德38人,其它国家19人。这些外国来宾包括美国、日本、法国和苏联各2人,英国5人,西柏林,德意志联邦、捷克斯洛伐克、芬兰、匈牙利和波兰各1人。会议安排了12个每次一小时的特邀报告,本届讨论会主席、东柏林电子物理学中心研究所(ZIE)的G.O.Muller博士作了关于会议主题     

全国稀土荧光材料及应用技术讨论会在保定召开

由中国稀土学会组织的全国稀土荧光材料及应用技术讨论会,于1982年12月7～10日在河北保定举行。来自全国有关科研单位、高等院校及工厂等20个单位的39位代表参加了会议。稀土新材料专业委员会主任许少鸿主持了这次会议,苏勉曾教授等七位同志在会上作了特约报告,十多位同志作了研究工作报告。     

激光化学微加工技术

本文综述了激光化学微加工技术的原理及某些特性,并指出其可能的应用及发展前景.     

基于双磨头的磁流变抛光机床与工艺研究

针对传统单磨头磁流变抛光技术的不足,提出了一种新的双磨头磁流变抛光方法,并研制了一台八轴数控双磨头磁流变抛光机,具备了大口径平面、非球面及连续位相板的超精密、高效率加工能力。分别研究了大、小磨头材料去除特性及面形修正能力,不仅获得了稳定、有效的大、小抛光斑,而且获得了超精的大、小平面工艺样件。50 mm小平面经小磨头一次连续抛光,在 45 mm内其面形精度PV由0.21 收敛至0.08 、RMS由0.053 收敛至0.015 ;430 mm430 mm大平面经大磨头3次迭代抛光,在410 mm410 mm内其面形精度PV由0.4 收敛至0.1 、RMS由0.068 收敛至0.013 。由此表明,所研制的双磨头磁流变抛光机床具有较好的材料去除特性和较强的面形修形能力。