微波消解-氢化物发生-原子荧光光谱法测定7种中草药中砷

利用原子荧光光谱法测定7种驱虫类中草药中的砷.实验采用微波消解样品,以盐酸为测定介质,硫脲-抗坏血酸为预还原剂,硼氢化钾为氢化剂,用氢化物发生-原子荧光光谱法测定砷含量.砷含量在10-100ng/mL浓度范围内线性关系好(r2=0.9924).回收率为93.83%-110.94%之间.方法简便、快速、灵敏、准确,可用于中草药中砷的测定.     

岩矿中磷和砷的快速测定

采用简便的小体积溶矿,实现了磷、砷连测,此法较之磷、砷分别测定,手续大为简化,且结果满足要求.     

纳米级自旋电子学材料取得重要进展

因为纳米级的自旋电子学器件需要在纳米尺度上仍能在较高温度下保持优异性能的高自旋极化率材料，故与半导体相容的半金属铁磁体近来受到高度重视．文章介绍作者在这个方向上研究工作的最新重要进展：通过大规模系统的高精度第一原理计算，作者发现三个3d过渡金属硫系化合物的闪锌矿相具有优异的半金属铁磁性，并且其结构性能适合做成具有足够厚度的薄膜或层状材料，便于应用于纳米级自旋电子学器件。     

A Facile Synthesis of α-Phenylthio-α,β-Unsatuated Esters

α-phenylthio-α，β-unsaturated esters 6 were synthesized by Witting reaction of 3.which were prepared by a phenylsulfenyllation-trans-ylidation reaction.     

Theoretical Analysis of Characteristics of GaxInl—x NyAsl—y／GaAs Quantum Well Lasers with Different Intermediate Layers

Based on the band anticrossing model, the effects of the strain-compensated layer and the strain-mediated layero n the band structure, gain and differential gain of GalnNAs/GaAs quantum well lasers have been investigated. The results show that the GaNAs barrier has a disadvantage in increasing the density of states in the conduction band. Meanwhile, the multilayer quantum wells need higher transparency carrier density than the GalnNAs/GaAs single quantum well with the same wavelength. However, they help to suppress the degradation of the differential gain. The calculation also shows that from the viewpoint of band structure, the strain-compensated structure and the strain-mediated structure have similar features.     

微波消解ICP-AES法同时测定花岗石中铜、镉、铬和砷

本文采用微波消解和ICP－AES法，同时测定花岗石样品的铅、镉、铬、砷4有害元素，检出限分别为0．0008、0．0007、0．0018、0．0012μg.mL^-1,回收率为93．4％－102．5％，RSD为1．3％－3．6％，该法准确、快速、简便，结果令人满意。     

石墨炉原子吸收法测定化妆品中的砷

在过氧化氢溶液及硝酸镍存在下，用石墨炉原子吸收法测定化妆品中砷的含量，砷的浓度在0-1mg/L时与吸光度线相关，线性方程为A=0.838c 0.003，相关系数为0.99994。对液体和固体化妆品中的砷进行测定，砷的加标回收率为98.3%-98.7%，测定结果的相对标准偏差为0.65%-1.50%。     

电感耦合等离子体原子发射光谱法测定化妆品中砷、铅、汞

本文采用五氧化二钒作催化剂，HNO3－H2SO4消解法对化妆品前处理后，用电感耦合等离子体发射光谱仪同时测定砷，铅，汞，方法简便，快速，回收率在95％－103．5％之间，相对标准偏差不大于3％。     

金属颗粒-半导体膜Cu:CdS的制备及结构研究

利用磁控溅射产生金属Cu团簇，同时蒸发半导体介质CdS，将Cu团簇包埋在CdS介质中，制备出金属颗粒 半导体膜．团簇大小可通过改变溅射气压控制．用TEM研究了嵌埋团簇的结构．分析表明：CdS很好地包埋了Cu团簇，都呈多晶结构；团簇尺寸在5—20nm，Cu晶格发生了膨胀，膨胀量在7%左右 关键词：