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合成了一种钴的酞菁配合物,以玻碳为基体、用化学吸附法制备了它的化学修饰电极。用CV法研究了该化学修饰电极对抗坏血酸氧化的电催化作用。结果表明,该化学修饰电极对抗坏血酸的氧化有一定的电催化作用,且电催化活性的稳定性高,抗坏血酸的电催化氧化峰电流和其浓度之间有良好的线性关系。 相似文献
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高稳定性普鲁士蓝修饰电极的制备和研究 总被引:4,自引:0,他引:4
采用恒电流电解方法,使用FeCl_3-K_3Fe(CN)_6和Fe~(?)L_(?) -K_3Fe(CN)_6(L,邻菲绕啉,EDTA,5-磺基水杨酸等)两体系,在玻碳和铂基体上均制得高稳定性普鲁士蓝膜。用循环伏安法在lmol·dm~(-3)KCl(pH4)溶液中,重点地在0.6--1.1V(vs.Ag/AgCl)区间研究了膜的电化学稳定性。在玻碳基体上FeCl_3,-K_3Fe(CN)_6和Pe~(?)·L_(?) -K_3Fe(CN)_6体系电积膜分别可经受10~(?)周和2×10~(?)周扫描。在铂基体上则可分别经受2×10~(?)和7×10~(?)周扫描。红外和X-射线衍射证明两体系制得的膜均为普鲁士蓝膜,稳定性的明显差异是由于普鲁士蓝晶粒度的不同和在基体表面的相对取向不同引起的。对影响膜的稳定性的因素作了较系统的研究。 相似文献
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用不可逆吸附法首次制备了Fe(Ⅱ)、Co(Ⅱ)、Ni(Ⅱ)和Cu(Ⅱ)的3,3',3'',3'''-四硝基酞菁配合物化学修饰电极(ML CME),研究了它们对联氨氧化的电催化作用,发现当电位扫描区间为-1.2—0.6V时,它们对联氨的氧化都有明显的电催出作用;而当电位扫描区间为-1.2—0.0V时,只有FeL CME和CoL CME具有明显的电催化作用.FeL CME和CoL CME对联氨的氧化不仅电催化活性高,而且稳定性也很高,具有很好的重复性,联氨电催化氧化峰电流与联氨浓度有良好的线性关系.初步拟定了ML CME电催化氧化联氨的机理. 相似文献
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合成了一种钴的酞菁配合物,以玻碳为基体、用化学吸附法制备了它的化学修饰电极。用CV法研究了该化学修饰电极对抗坏血酸氧化的电催化作用。结果表明,该化学修饰电极对抗坏血酸的氧化有一定的电催化作用,且电催化活性的稳定性高,抗坏血酸的电催化氧化峰电流和其浓度之间有良好的线性关系。 相似文献
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合成了一系列过渡金属的3,3,′3,″3(?)-四硝基酞菁配合物,用不可逆吸附法制备了它们的以玻碳为基体的化学修饰电极(简记为ML CME,M为金属离子,L为酞菁配体).用CV等方法系统地研究了它们的电化学性质特别是电催化性能,本文报道ML CME(M为Fe~(Ⅱ)、Co~(Ⅱ)、Ni~(Ⅱ)和Cu~(Ⅱ))对异菸肼氧化的电催化作用. 相似文献
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