辉光放电发射光谱逐层分析

Grimm设计的辉光放电灯(G、D、L)自1968年问世以来,受到光谱科学工作者很大重视。由于它精度高、第三元素影响小和自吸收小等优点,已被应用于金属与合金成份分析。如在铜合金、铝合金、钢铁、非金属等方面都有广泛的应用。特别是高含量成份分析,有人认为它的分析精度可与X射线荧光分析的结果     

辉光放电发射光谱在金属表面逐层分析上的应用

引言金属与合金表面的物理化学性质决定了它们的腐蚀、氧化、磨擦和磨损的性能和与保护涂层的粘结性,所以对金属表面的研究引起广泛的注意。对于冶金工作者来说,测定合金热处理和化学热处理过程各个阶段产品的表面化学成份是极为重要的。目前常用的一些表面分析技术,如俄歇电子能谱(AES),二次离子质谱(SIMS)和光电子能谱(ESCA或XPS)等,由于它们的技术复杂,设备昂贵,未能得到广泛的工业应用。因此寻找一种快速、简便并能     

辉光放电光源中激发过程的研究

自Grimm灯问世以来,GD光源在Cu合金、Al合金、钢铁、非金属、表面涂层等方面有着广泛的应用。在冶金分析方面有些数据表明,GD光源优于高重复率光源。在表面分析方面,有些作者认为GDOS实际上也是表面分析的一种手段。因此对GD光源中的放电特性和激发过程的进一步研究是有意义的。     

阴极溅射原子化的原子吸收光谱分析

在原子吸收光度法中,Russell和Walsh很早就应用辉光放电中阴极溅射的原理做成原子化器。近年Gough等人采用Grimm灯的基本设计,并进行了一些改进做为原子化器对金属和合金进行直接原子吸收分析,取得了良好的结果。但是,从许多有关辉光放电灯的研究中看到,不同成份     

强短脉冲辉光放电阴极溅射逐层分析研究

利用强短脉冲供电电源和一种新型的辉光放电灯联用进行阴极表面溅射，发现它与在直流供电下有不同的结果，扫描电镜进行观察，得到样品溅射表面的扫描图，结果表明，该技术的金属或合金样品表面的逐层分析提供了一种新方法。     

辉光放电发射光谱逐层定量分析

Grimm辉光放电灯已被用于发射光谱逐层分析。由于样品成份随深度急剧变化,很难找到成份与其相近的标准来标定元素含量,有时只给出了定性结果。本文提出了一种新的标定方法。我们用辉光放电和原子发射光谱的基本理论分析了辉光灯中的溅射和激发过程。在固定放电电压和气压的条件下,得到了一个新的标定公式: I=K(gAC) 式中I、C、g、A分别是分析元素谱线强度,溅射表面该元素的含量,溅射率和放电电流,K是个与其它元素的存在无关的比例系数。g和A都会因样品成份不同而有差别,这说明它们代表了样品中的基体和共存元素影响。但是它们可以在实验中测量。这样就可以用纯金属或不同基体的合金作为标准来标定被测样品溅射表面的元素含量,进行逐层定量分析。当用摄谱法时,相应的公式为: S=γlog(gACt)+k 式中S,γ,t分别代表谱线黑度,干板反衬度和暴光时间。     

辉光放电灯中亚稳态氩原子相对密度的测定

本文介绍了用原子吸收法测定辉光放电灯中亚稳态氩原子的相对密度的方法。实验结果表明:亚稳态氩原子的吸光度随电压(或气压)的增加单调上升。观察了几种多原子气体对亚稳态氩原子的猝灭现象。     

一种新的发射光谱光源辉光放电灯的研制

自从一九六七年Grimm设计了一种结构特殊的辉光放电灯作为发射光谱分析的光源以来,辉光放电光源逐渐引起光谱分析工作者的注意和研究。这种光源的取样和激发机理与惯用的电弧、火花等光源有所不同。它稳定性好,共存元素影响小,谱线自吸收小,并且能对试样表面逐层地取样分析。这使它在高含量合金成份的分析和表层分析方面显示出较大的优越性。我们已研制出这种光源,对它的工作参数、性能及其相互关系进行了初步研究,并与摄谱法配合作了金属表层逐层分析,效果较好。一、设备全部设备由辉光灯、供气系统和稳压电源三部分组成。