能量传递制冷机制中激光制冷的最佳泵浦频率和最大制冷效率

在能量传递型激光制冷中,对于非均匀线宽比较窄的情况,引起最大制冷效率的激发光频率不随温度的变化而变化最大制冷效率与温度呈三次暴的关系。对于非均匀线宽比较宽的情况。随着温度的降低,最佳激发光频率与非均匀线形的中心频率差越来越大,并在较低的温度下迅速拉大它们间的距离。由能量传递机制所引起的荧光制冷最大效率也随着温度的降低而越来越低,并在最后趋于零。它们随温度的降低而降低的规律与实验中得到的结论相符合。     

HL-2A中性束大功率离子源的研制

2007年3月,为HL-2A中性束注入器研制的大功率离子源在核工业西南物理研究院成功通过了测试.该离子源为圆柱结构的桶式离子源型;加速器采用三电极的加减速系统.实验运行参数如下:灯丝加热电流1100A,电压12V,弧放电电压120V,弧放电电流1050A,等离子体密度达2.5×1012/cm3,离子流密度0.44A/cm2;在距等离子体电极5mm的平面上,等离子体的均匀性好于5%,工作脉宽2s.离子源物理设计、工程考虑、实验研究结果等将在本文介绍.     

大功率多磁极会切场离子源的弧放电特性分析

为了在HL-2A上实现3MW的中性束注入,我院自主研制了直径为260ram,高度为240ram的大功率多磁极会切场离子源.目前,它的性能已达到并超过了最初设计指标,放电脉冲为ls时,最大离子流密度为0.44A/cm2;放电脉冲为3s时,等离子体离子流密度0.24A/cin2;等离子体非均匀性都在5%-7%范围之内.目?它是我国国内等离子体密度最高,放电功率最大的长脉冲桶式离子源.本文通过实验数据与理论相结合的方式对弧放电特性进行分析.     

共沉淀法合成的（Y，Gd）BxV1-xO4-x：Eu荧光粉的光谱特性研究

采用共沉淀反应软化学法合成了体色洁白的（Y，Gd）BxV1-xO4-x：Eu^3＋荧光粉。在147nm真空紫外线的激发下，（Y，Gd）BxV1-xO4-x：Eu^3＋荧光粉的发射主峰位于619nm，红色色纯度优于PDP用商品（Y，Gd）BxV1-xO4-x：Eu^3＋荧光粉，但其相对发光亮度只有商品粉的90％，是一种有前途的PDP用和荧光灯用的红色荧光粉。     

稀土钒磷酸盐荧光粉的共沉淀法合成及光致发光

以稀土、钒的氯化物为原料，以氨水、双氧水和磷酸氢二铵溶液作复合沉淀剂，采用共沉淀工艺合成了YP1-xVxO4：RE^3 (RE=Sm，Eu，Dy，Tm，Er)荧光粉。利用XRD，SEM，紫外以及真空紫外激发下的发射光谱对其进行表征，并探讨其实际应用的可能性。结果表明，共沉淀法合成的稀土钒磷酸盐荧光粉颗粒形貌规则、均一；YP0.2V0.8O4：Eu^3 荧光粉发射主峰位于619．5nm，是现有PDP商品(Y，Gd)BO3：Eu^3 荧光粉的良好替代品；发射橙红光的YP0.4V0.6O4：Sm^3 荧光粉是价格低廉的稀土三基色灯用Y2O3：Eu^3 红粉的替代品；Dy^3 ,Tm^3 共掺杂YP0.4V0.6O4可直接得到发白光的二基色灯用荧光粉。     

陶瓷厚膜电致发光器件的电致发光特性研究

研制了以四元系组分ＰＭＮ－ＰＴ－ＰＦＮ－ＰＣＷ陶瓷厚膜为绝缘层的无Ｙ２Ｏ３介质层和有Ｙ２Ｏ３介质层两种结构的电致发光器件,并对陶瓷厚膜的制备民厚膜厚度等对陶瓷厚膜电致发光器件电致发光特性的影响进行了深入的研究。     

能量传递过程的计算机模拟

通过对供体(D)—受体(A)间传递速率静态分布的模拟,得到了静态能量传递情况下D的发光衰减曲线,与Inokuti-Hirayama模型结果一致.模拟并讨论了D—D传递与D—A传递相关和非相关情况下D—D传递对D发光衰减的影响. 关键词：     

970nmLD激发Tm^3＋,Yb^3＋掺杂的MFT玻璃材料上转换发光的研究

设计并制备了一种Ｔｍ＾３＋、Ｙｂ＾３＋共掺杂的多氟化物调整碲酸盐（ＭＦＴ）玻璃材料,其组份为５０ＴｅＯ２－１４．ＰｂＦ２－１０ＡｌＦ３－１０ＢａＦ２－１０ＮａＦ－０．１Ｔｍ２Ｏ３－５Ｙｂ２Ｏ３。测量了该玻璃系统的Ｒａｍａｎ散射光谱,在９７０ｎｍＬＤ激发下裸眼可以观察到很强的蓝色我,光谱测量证实这个蓝色发射（４７６ｎｍ）来源于＾１Ｇ４→＾３Ｈ６的跃迁,同时,还有两个较弱的红色发射源于＾１Ｇ４→＾３Ｈ     

Optimization of Experimental Discharge Parameters to Increase the Arc Efficiency of the Bucket Ion Source

Arc efficiency is a critical criterion for assessing the performance of the ion source. High are efficiency is necessary for a high power ion source, because it can decrease the load of the arc power supply. Thus the relationship between the discharge parameters （gas pressure, arc voltage, filament current, bias resistance connecting between the anode and plasma grid） and the arc efficiency is investigated in experiment especially. It is found that with increasing pressure, the arc efficiency increases fast if the pressure is below 0.4 Pa, but when it is above 0.4 Pa, the arc efficiency remains unchanged or increases slowly. If we increase the arc voltage or filament current, the arc efficiency decreases. The bias resistance also influences the arc efficiency, at the same pressure the arc efficiency increases with resistance.     

八电子Pd4四面体团簇的电子结构稳定性分析

基于理论计算,我们报道了T_d对称性的[Pd₄(μ₃-SbH₃)₄(SbH₃)₄]团簇及一系列类似物的结构与成键。成键分析表明：每个Pd原子都是sp³杂化,其10个价电子与四个配体提供的8个价电子,满足18电子规则。并且,每个Pd原子与四个桥连的SbH₃配体可以形成四个离域的四中心两电子超级σ键或八中心两电子键。一方面,根据超原子网络模型,这个钯团簇可以描述成四个2电子的超原子网络。另一方面,凝胶模型表明,它可以合理化的作为电子组态是1S²1P⁶的8电子超原子。与此同时,d¹⁰…d¹⁰闭壳层相互作用在稳定Pd₄四面体结构中起到了关键性的作用。密度泛函理论计算表明：T_d对称性[Pd₄(μ₃-SbH₃)₄(SbH₃)₄]团簇表现出高度稳定性,具有充满的电子壳层,大的HOMO-LUMO带隙(2.84 eV)以及负的核独立化学位移(NICS)值。此外,基于[Pd₄(μ₃-SbH₃)₄(SbH₃)₄]结构与成键模式,我们设计了一系列稳定的类似物,其有可能被实验合成出来。