后退火温度对溅射沉积Pb(Zr0.52Ti0.48)O3铁电薄膜结构和性能的影响

在具有Ti缓冲层的Pt(111)底电极上,用射频溅射工艺在较低的衬底温度(370℃)和纯Ar气氛中沉积Pb(Zr0.52Ti0.48)O3(PZT)薄膜,沉积过程中基片架作15°摇摆以提高膜厚的均匀性。然后将样品在大气中进行5min快速热退火处理,退火温度550-680℃。用XRD、SEM分析薄膜的微结构,RT66A标准铁电测试系统测量样品的铁电和介电性能。结果表明,所沉积的Pt为(111)取向,仅当后退火温度高于580℃,沉积在Pt(111)上的PZT薄膜才能形成钙钛矿结构的铁电相,退火温度在580-600℃时结晶为(110)择优取向,退火温度高于600℃时结晶为(111)择优取向。PZT薄膜的极化强度随退火温度的升高而增加,但退火温度超过650℃时漏电流急剧上升,因此退火处理的温度对PZT薄膜的结构和性能有决定性的影响。     

Formation Mechanism and Orderly Structures of an Iron Film System Deposited on Silicone Oil Surfaces

A new iron film system,deposited on silicone oil surfaces by vapour phase deposition method,has been fabricated and its formation mechanism as well as orderly structures has been studied,It is found that the formation mechanism of the films obeys a two-stage growth model,which is similar to that to the other metallic films on liquid substrates,Large and orderly structures are observed in the continuous iron films.The experiments show that the orderly spatial structures result from the local material gathering in these nearly free sustained films.     

金属蒸气合成制备有机硅化合物包裹的金属微粒催化剂

用金属蒸气合成法制备了三种有机硅包裹的金属催化剂Ni/D_4,Ni-Mn/D_4,Ni-Mn-La/D_4。用XRD,TEM,XPS,FMR,静磁对它们进行了性质表征。催化剂中金属粒子小于3.5 nm。XPS结果表明催化剂中金属以零价和氧化态多种形式存在,金属被有机硅包裹着,阻止了内层金属被氧化,FMR和静磁结果表明金属微粒呈球形,具有超顺磁性。在催化糠醛合成糠醇加氢反应中,Ni-Mn-La/D_4活性最高。     

铁硅酸盐分子筛乙苯氧化脱氢催化性能研究：I.催化剂的表征及反应温…

本文合成了五种不同Ｓｉ／Ｆｅ比的Ｆｅ－ＺＳＭ－５分子筛，并进行了离子交换改性。ＸＲＤ和ＩＲ谱测试均表明Ｆｅ进入了分子筛骨架。用连续流动法考察了反应温度、ＥＢ／Ｏ２比对乙苯氧化脱氢活性的影响。结果表明，在８２３Ｋ和ＥＢ／Ｏ２＝１的条件下苯乙烯有最大收率。