全文获取类型
收费全文 | 3738篇 |
免费 | 628篇 |
国内免费 | 649篇 |
专业分类
化学 | 305篇 |
晶体学 | 6篇 |
力学 | 190篇 |
综合类 | 362篇 |
数学 | 3141篇 |
物理学 | 1011篇 |
出版年
2024年 | 20篇 |
2023年 | 81篇 |
2022年 | 87篇 |
2021年 | 81篇 |
2020年 | 55篇 |
2019年 | 75篇 |
2018年 | 47篇 |
2017年 | 111篇 |
2016年 | 126篇 |
2015年 | 142篇 |
2014年 | 235篇 |
2013年 | 196篇 |
2012年 | 214篇 |
2011年 | 241篇 |
2010年 | 216篇 |
2009年 | 192篇 |
2008年 | 250篇 |
2007年 | 239篇 |
2006年 | 234篇 |
2005年 | 211篇 |
2004年 | 224篇 |
2003年 | 204篇 |
2002年 | 189篇 |
2001年 | 182篇 |
2000年 | 158篇 |
1999年 | 112篇 |
1998年 | 120篇 |
1997年 | 105篇 |
1996年 | 96篇 |
1995年 | 105篇 |
1994年 | 106篇 |
1993年 | 57篇 |
1992年 | 59篇 |
1991年 | 65篇 |
1990年 | 60篇 |
1989年 | 65篇 |
1988年 | 20篇 |
1987年 | 12篇 |
1986年 | 8篇 |
1985年 | 2篇 |
1984年 | 3篇 |
1983年 | 5篇 |
1982年 | 4篇 |
1959年 | 1篇 |
排序方式: 共有5015条查询结果,搜索用时 46 毫秒
51.
为探讨Cole-Cole方程8个参数(Δε1,Δε2,εh,κl,f1,f2,β1,β2)对细胞介电频谱的影响,采用改变单个参数,固定其他参数的方法,观察介电频谱的变化.结果显示:Δε1影响低频介电频谱和Cole-Cole(ε′)图;Δε2影响高频介电频谱、Cole-Cole(ε′)图和Cole-Cole(κ′)图;εh影响ε′(f)、Cole-Cole(ε′)图和tgδ(f);κl对κ′(f)和Cole-Cole(κ′)图有影响;f1影响低频介电频谱;f2影响高频介电频谱;β1影响Cole-Cole(ε′)和tgδ(f);β2对高频介电频谱有影响.可见Cole-Cole方程作为细胞介电频谱的数学模型,其参数变化有规律可循. 相似文献
52.
53.
Si Zhong Zhou 《数学学报(英文版)》2014,30(1):181-186
LetG be a graph,and k≥2 be a positive integer.A graph G is fractional independentset-deletable k-factor-critical(in short,fractional ID-k-factor-critical),if G I has a fractional k-factor for every independent set I of G.The binding number bind(G)of a graph G is defined as bind(G)=min|NG(X)||X|:=X V(G),NG(X)=V(G).In this paper,it is proved that a graph G is fractional ID-k-factor-critical if n≥6k 9 and bind(G)(3k 1)(n 1)kn 2k+2. 相似文献
54.
王永平 《数学的实践与认识》2014,(6)
在语言图Γ(X*)概念的基础上,用新引入的语言竹竿l(X*)和语言竹竿集L(X*)的概念形象地刻画了前缀码与极大前缀码:A是前缀码l(X*)∈L(X*),S_l_((X*))∩A或为单点集或为Φ;A是极大前缀码l(X*)∈L(X*),i)S_(l(X*))∩A或为单点集或为Φ.ii)S_(l(X*))∩A=Φ■u∈S_(l(X*)),■a∈A,ω∈X~+使a=uw. 相似文献
55.
首先研究图的局部k限制边连通性问题和局部λ_k-连通图的存在性问题.然后研究图的局部λ_k最优性,并且应用邻域条件得到了一个保证图局部λ_k最优的充分条件. 相似文献
56.
在针尖增强拉曼光谱(TERS)形貌成像过程中,由于针尖与扫描台无法绝对平行、样品电子密度骤变处针尖快速升降以及扫描控制系统响应时间特性差等综合原因的影响,往往使形貌图中带有倾斜或边界面卷曲的成像背景。成像背景对样品形貌的识别和分析带来十分不利的影响,而背景扣除就是解决该问题的重要手段,也是形貌成像预处理的重要组成部分。背景扣除的原理一般是通过拟合背景的方法来扣除成像中的背景。传统的背景扣除方法是利用多项式拟合的方法对成像进行逐行的基线校正,但是该方法在处理形貌成像时常常会由于过拟合而造成样品形貌的失真,同时容易在图片上留下明显的线条纹理。针对传统方法的缺点,本文提出采用B样条曲面拟合方法,直接对样品形貌图进行曲面背景拟合,发挥B样条低阶光滑的优点,能够有效克服传统方法的缺陷。在实验中,同时利用传统方法和该方法对金单晶和合成金片的形貌图进行背景扣除,实验结果表明,两种方法都能够扣除样品形貌图中的成像背景,但与传统方法相比,所提出的方法不会造成样品形貌的失真,且不会留下线条纹理,获得了更加良好的背景扣除效果,为进一步分析样品形貌特征提供了更准确可靠的信息,是一种更加有效的TERS形貌成像背景扣除算法。 相似文献
57.
高斯图模型研究独立随机变量之间的关系.主要针对该模型,提出了一种分层惩罚连接单个图模型估计的多图模型.研究了新模型的高维统计性质,给出模型的参数估计,并得到了相合性及稀疏性两大理论. 相似文献
58.
59.
60.