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花丝内插物强化竖直管内凝结换热的实验研究 总被引:1,自引:1,他引:0
1前言大空隙率多孔体管内插物-绕花丝内插物,被认为是强化管内凝结换热的最有效途径之一[1].但以往的研究,由于实验雷诺数范围较小,蒸汽速度较低,要正确全面评价其性能尚显不够。本文在原有工作的基础上,进一步完善了实验系统,改进了测试手段,扩大了实验雷诺数范围,并测试了其阻力性能,对花丝内插物强化管内凝结换热进行了较深入全面的实验研究,以全面评价花丝内插物对管内凝结换热的强化效果。2实验系统本文实验系统如图1所示。实验段是一个竖直套管冷凝器,如图2所示.本试验研究蒸汽完全凝结时的传热。凝结水流量采用容积法计… 相似文献
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44.
采用MSDI严格角动量投影46Ti、48Cr形变HF谱 总被引:1,自引:1,他引:0
采用修正的表面δ相互作用(MSDI),以球形壳模型单粒子态作基矢,对fp壳层区偶偶核46Ti、48Cr进行形变Hartree–Fock(HF)计算,并用形变HF单粒子态构造Slater行列式波函数,即形变HF内禀态,然后对其实施严格角动量投影程序,得到比较合理的结果. 相似文献
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Hydrogen ions were implanted into separation by implantation of oxygen (SIMOX) silicon-on-insulator (SOI) wafers near the oxygen-implantation-induced damage peak under different conditions of energy and dose. It was found that the implanted hydrogen ions not only accelerate the diffusion of oxygen atoms from the annealing ambience into the wafer but also cause an outward diffusion of oxygen atoms in the buried oxide (BOX) layer. Thus, greatly broadened buried oxygen-rich (BOR) layers were formed in our experiments, which are 18%-79% broader than the BOX layer of standard SIMOX SOI wafers under the same conditions of oxygen implantation. The mechanism was discussed. A potential low cost method to fabricate SIMOX SOI wafers is proposed. 相似文献
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