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42.
纳米碳材料负载铂催化剂在环己烷脱氢反应中的催化性能研究 总被引:2,自引:0,他引:2
制备了纳米碳材料负载铂的催化剂,通过N2吸附、TEM、XRD技术分别对载体的BET比表面积和催化剂结构、形貌和粒径大小进行了表征。考察了不同催化剂在环己烷脱氢反应中的催化性能以及温度对纳米碳颗粒负载铂催化剂活性的影响。结果表明,锚定在不同碳载体上的铂有较好的分散性,粒径较小,粒度分布范围较窄并且具有相同的晶型结构。孔状纳米碳颗粒负载铂催化剂的活性高于碳纳米管和高比表面的活性炭负载铂催化剂,并且在低温条件下已经显示了较高的活性,尤其是中空碳颗粒负载铂催化剂在环己烷脱氢反应中显示了好的活性和稳定性。 相似文献
43.
44.
表面活性剂胶束形状随浓度转变的核磁共振研究 总被引:1,自引:0,他引:1
运用核磁共振一维氢谱和自扩散实验方法研究了聚乙烯乙二醇异辛酚醚(TX-100)、十二烷基苯磺酸钠(SDBS)和十四烷基三甲基溴化铵(TTAB)三种不同类型的表面活性剂在重水溶液中的胶束形状转变, 发现它们在临界胶束浓度以上的各自相应浓度都有胶束形状的变化(由球状转变为椭球状或棒状). 在常温常压和没有其他添加剂的情况下, 表面活性剂溶液浓度高于其临界胶束浓度时, 球状胶束开始形成. 核磁共振一维氢谱和自扩散实验的结果显示, 当溶液浓度继续增加到一定程度时, 溶液中表面活性剂分子的化学位移和自扩散系数的变化速率都有明显的转折, 这说明溶液中球状胶束开始发生转变. 进一步通过仔细分析对比核磁共振一维氢谱中各基团谱峰, 发现表面活性剂胶束亲水表面上的质子的化学位移变化速率要远高于其疏水内核中的质子, 据此推测胶束形状很可能由球状转变为椭球状或棒状. 相似文献
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46.
余玉峰 《数学的实践与认识》2019,(9)
给出双旋转不变Radon变换的一个等价刻画.证明了双旋转不变Radon变换的双旋转不变性可以被■×■×[0,1]×■上的函数所刻画. 相似文献
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应用全细胞膜片钳技术研究了胞外高钾对大鼠背根神经元(DRG)超极化电流(Ih)的影响.结果表明,Ih随着胞外钾离子浓度的增大而增大,同时随着外加刺激电压的增高而增强.当胞外钾离子浓度[Kext]为4,8和16mmol/L时,半数激活电压V1/2分别为-98±1.9,-106±1.3(p〈0.05)和-110±1.0mV(p〈0.05),其对应的最大电流的峰值分别为1085±340,1576±409和2124±614pA,与4mmol/L比较,后者分别增长了45%和92%.胞外高钾使,Ih激活曲线显著左移,说明高Kext改变了超极化电流的激活过程.提高细胞外钾离子浓度,可以使早期钾通道(又称快通道)的激活时间常数增大,使晚期钾通道(又称慢通道)激活时间常数减小.当胞外钾离子浓度由4mmol/L升高到8和16mmol/L时,翻转电位右移,但不具有显著性差异.结果提示,细胞外高浓度钾可增强大鼠背根神经元超极化电流,Ih,改变Ih的激活过程,从而提高了神经元的兴奋性,产生不正常的动作电位,对神经细胞产生损伤. 相似文献
48.
该文研究了一类正倒向重随机微分方程, 在某些自然的单调性假设下, 得到了解的存在唯一性结果. 相似文献
49.
This paper deals with the stabilization problem for linear time-varying systems within the framework of nest algebras. We give a necessary and sufficient condition for a class of plants to be stabilizable, and we also study the simultaneous and strong stabilization problems. 相似文献
50.
Theoretical Analysis of Interference Nanolithography of Surface Plasmon Polaritons without a Match Layer 下载免费PDF全文
Interference nanolithography techniques based on long-range surface plasmon polaritons (LR-SPP) are hardly ever achieved by experiments at present. One key reason is that suitable liquid materials are difflcult to find as the match layer connects the metal film and the resist. We redesign a Kretschmann-Raether structure for interference lithography. A polymer layer is coated under the metal film, and an air layer is placed between the polymer layer and the resist layer. This design not only avoids the above-mentioned question of the match layer, but also can form a soft contact between the polymer layer and the resist layer and can protect the exposure pattern. Simulation results confirm that a device with an appropriately thick polymer layer can form high intensity and contrast interference fringes with a critical dimension of about λ/7 in the resist. In addition, the fabrication of the device is very easy. 相似文献