三种偶氮化合物的荧光光谱研究

近年来 ,一些重要的有机染料探针在生物大分子光度分析、荧光分析和共振光散射分析方面得到了日益广泛地应用[1,2 ] ,深入研究这些有机染料的结构和光谱特性 ,探讨这些有机染料与生物大分子之间的作用 ,对于筛选性能优良的分子光谱探针 ,设计更加灵敏简便的分子光谱检测器件 ,是现代分析化学十分重要的课题。本文测定了偶氮胂Ⅱ (Ａｒｓｅｎａｚｏ)、铬黑Ｔ(ＥｒｉｏｃｈｒｏｍｅｂｌａｃｋＴ)、铬蓝黑 (ＥｒｉｏｃｈｒｏｍｅｂｌｕｅｂｌａｃｋＲ)等 3种化合物的荧光光谱 ,并用量子化学半经验方法ＡＭ1和ＰＭ3对3种化合物分子进行包括构型…     

单分子光谱检测法的新进展

自上世纪90年代以来，单分子检测已经取得了巨大的进步。它提供了大量非平衡体系中个体或平衡态脉动体系的信息，而这些信息是无法从传统的统计测量中获得的。本文主要介绍近10年来，单分子光谱检测技术从低温到室温、从非溶液介质到水溶液、从固体到活细胞、从有机染料分子到纳米粒子等方面的进展情况。     

LB技术组装聚合物／有机染料多层膜的光致发光和电致发光

半导体超晶格材料由于其特殊的光电性质引起人们的关注,So和Tokito等人用分子束沉积的方式制备了有机及有机无机复合的超晶格材料器件,但分子沉积中有机小分子染料的结晶影响薄膜的质量及器件的寿命。最近,我们用两亲性聚合物分子成功地将有机染料分子组装在聚合物LB膜中,有效地限制有机小分子染料结晶,实验证明此多层LB膜具有超晶格结构和较好的稳定性及发光特性。为制备多量子阱结构器件提供了一种新方法。 两亲性聚合物(ES)是由环氧氯丙烷、乙二胺和硬脂酸共聚而成。将染料分子四苯基丁二烯(TPB)与ES相混合的氯仿溶液(TPB与ES质量比为2:10)分散在去离子水亚相表面,在20mN/m的膜压下将其转移到单晶硅片上。用小角X射线衍射实验观察其多层结构,在小角衍射区存在一个Bragg衍射峰(图1),根据Bragg衍射方程得到其层状周期结构为5.8nm。考虑到ES的分子尺寸,我们认为每一周期结构是由两层聚合物的LB膜组成。由于TPB分子是疏水的,通过分子间的相互作用,TPB分子可能镶嵌或吸附在ES的疏水脂肪链中,与无机半导体超晶格结构对照,聚合物ES的亲水网络由于是绝缘材料,带隙很宽相当于能垒,而镶嵌有TPB的疏水层则相当于势阱,这就很可能形成聚合物/有机染料的超晶格结构。考察其发光特性(图2)时,发现聚合物/有机染     

基于尺寸识别和离子交换实现有机染料分离的一例阴离子型MOF

在溶剂热的条件下, 利用5-氨基间苯二甲酸(H₂aip)配体和硝酸铟[In(NO₃)₃·5H₂O]定向构筑了一例二维结构的阴离子型金属有机框架材料, {(Me₂NH₂)·[In(aip)₂]}·xG (1, G=客体分子). 采用X射线单晶衍射、热分析仪(TGA)和X射线粉末衍射(PXRD)等方法对该化合物进行了结构表征. 经过活化后样品1-ht几乎不吸附氮气, 但却能有效地吸附氢气和二氧化碳. 此外, 化合物1还可以通过离子交换和尺寸识别的方式来吸附阳离子亚甲基蓝(MB)染料, 而很难吸附阴离子甲基橙(MO)染料和分子尺寸更大的阳离子罗丹明B (RhB)染料, 实现水相中MB/MO和MB/RhB的选择性分离.     

2种三聚茚基三芳胺染料的合成及其光伏性能

以三聚茚基三芳胺为给电子单元,以绕单宁-3-乙酸为受电子单元,设计合成了2种三聚茚基三芳胺染料六乙基三聚茚胺饶丹宁乙酸(MXD8)和六乙基三聚茚胺环氧噻吩饶丹宁乙酸(MXD9)。 光学测试表明,该类染料光谱响应范围宽,摩尔吸光系数高。 结合2种染料的紫外-可见光谱和循环伏安曲线,确定了染料的电子基态和激发态能级位置。 结果表明,2种染料的能级位置符合染料敏化太阳能电池的要求。 将它们用作染料敏化太阳能电池中的光敏化剂,在AM1.5-100×10-3 W/cm2的光强下,MXD8敏化电池的开路电压(VOC)为614 mV,短路电流密度(JSC)为5.76×10-3 A/cm2,填充因子(FF)为0.66,总光电转换效率为2.33%。 尽管MXD9引入3,4乙撑二氧噻吩作为共轭桥,其光电转换效率却较MXD8低（1.27%）。 阻抗测试表明,MXD9光电转换效率较低的原因主要是电子更容易复合。 该结果表明,电子复合可能与分子共轭体系增大导致极化率增加有关。     

光催化技术在降解有机染料污染物方面的应用

光催化技术是一种新兴的高效节能现代污水处理技术,本文从半导体光催化技术研究现状、反应机理、反应动力学、光催化技术发展及其存在的问题等方面对半导体光催化技术在降解常见有机染料方面的应用加以综述.     

光盘中的化学知识

光盘按其功能可以分为3种:只读式、可录式和可擦重写式。本文对其组成、结构及记录和读取信息的原理进行了简单介绍。     

钒氧酞菁的合成及其薄膜结构与光电性能的研究

自从60年前^[1]金属酞菁被发现以来,就引起人们的广泛兴趣,其原因主要在于它们在染料颜料、光化学、催化、和成像中的应用. 和许多其它酞菁衍生物一样,钒氧酞菁具有光导和半导体特性,这使得它在光电子学、电子成像、化学传感器、甚至于微电子器件中有潜在的十分光明的应用前景^[2]. 例如, 钒氧酞菁在电子成像体系中已成为有用的感光材料. 近年来,金属酞菁等有机材料的结晶薄膜开始不断地吸引人们的注意力. 人们考察了不同的金属酞菁如: 酞菁铜、酞菁铅、酞菁镍、和酞菁锡 等的光电导和光电压^[3]. 通常酞菁以几种不同的多晶异构体、即以不同的晶体排列结构方式存在. 因此,其光电特性不仅取决于分子中心的金属原子、而且取决于它们的晶体结构. 总之,值得我们研究钒氧酞菁薄膜的光电特性以及它与吸收光谱和薄膜晶体结构的关系.     

基于硫酸根自由基的先进氧化活化方法及其在有机污染物降解上的应用

基于硫酸根自由基(SO₄^.-)的先进(高级)氧化法(AOPs)因其对新型有机污染物的高降解能力和高适应性而受到越来越多的关注。相比羟基自由基(·OH),SO₄^.-的选择性更好、还原电位更高、半衰期更长、pH范围更宽且成本更低,因而能更有效的降解污染物。SO₄^.-可由过一硫酸盐(PMS)或过二硫酸盐(PDS)等过硫酸盐(PS)通过热、机械化学、过渡金属、碳质材料、碱、紫外(UV)或电化学等方法活化产生。本文分析了不同活化方法的优缺点及其应用于有机污染物降解上的研究进展,总结了SO₄^.-降解含不同官能团污染物的三种机理(加成作用、夺氢作用和直接电子转移),并综述了SO₄^.-降解持久性有机污染物(POPs)、“伪持久性有机污染物”——药物和个人护理品(PPCPs)及有机染料三大类有机污染物的降解途径、降解产物及其研究进展,最后展望了该技术未来的研究方向。     

还原氧化石墨烯修饰Bi2WO6提高其在可见光下的光催化性能

通过两步水热法合成了一种新型的还原氧化石墨烯(RGO)修饰的Bi₂WO₆(Bi₂WO₆-RGO), 结果表明其在可见光下的光催化性能得到了显著的提高. 研究了RGO在Bi₂WO₆-RGO中的含量对其光催化性能的影响, 从而确定出RGO相对于Bi₂WO₆的最佳掺杂质量比值为1%. 通过扫描电镜(SEM)研究发现, RGO并没有改变Bi₂WO₆光催化剂的结构和形貌. Bi₂WO₆-RGO在可见光下的光催化性能得以提高可以归功于RGO. 其可能的机理是石墨烯的存在有利于光生载流子(激子)的分离, 从而导致产生更多的O₂^·-用于有机染料污染物(如罗丹明B (RhB))的降解. RhB分子在石墨烯上的有效吸附可能也是导致Bi₂WO₆-RGO光催化性能提高的另一原因.