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31.
固体电枢电磁轨道发射中,膛内枢轨滑动电接触的电热特性关系到滑动界面的接触状态、电流传导品质和界面能量耗散,制约着系统效率和轨道寿命。设计开展了多组不同电流线密度的多发重复试验,通过采集电气试验数据进行迭代计算,得到了滑动接触电阻和界面焦耳热耗散功率的动态变化规律,分析了沉积物随重复发射的演变及电流线密度对电热特性的影响规律,并结合试验后轨道表面熔蚀沉积检测,讨论了滑动电接触界面的演变过程。结果表明:接触电阻稳定临界点和焦耳热耗散功率峰值点都出现在脉冲电流下降沿,接触电阻稳定值量级为10-2 mΩ,焦耳热功率峰值幅值可达10-1 MW;炮口速度随重复次数的增加而降低并趋于稳定,多次重复发射对滑动接触电阻和焦耳热功率较小的影响表明沉积物在发射中再次熔融并对电接触起积极作用;而即使输入能量一致,电流线密度的变化也显著影响了界面焦耳热的生成。 相似文献
32.
33.
采用自行设计的液相法沉积装置,以甲醇有机溶剂作为碳源,利用液相电化学沉积技术在不锈钢及Si基底上制备了类金刚石薄膜;用扫描电镜、Raman光谱仪表征了沉积薄膜的表面形貌和结构;用UMT-2M摩擦磨损试验机对两种沉积薄膜进行了摩擦性能测试。结果表明:经电化学沉积的类金刚石薄膜均匀、致密,表面粗糙度小;Raman光谱在1 332cm-1处有强的谱峰,与金刚石的特征峰相吻合,其中不锈钢基底上薄膜的sp3含量更高;不锈钢基底沉积膜的摩擦系数为0.12,Si片基底沉积膜的摩擦系数为0.10;不锈钢基底沉积膜的耐磨性较Si片沉积膜高。 相似文献
34.
由于激光烧蚀靶材产生的等离子体呈高斯分布,其中所包含粒子密度及性能的空间分布极不均匀,因此脉冲激光沉积法难以制备性能与膜厚均匀的大面积薄膜。提出并构建了衬底自转与一维变速平移机构,衬底匀速自转的同时,进行一维平移,越靠近等离子体中心平移速率越大、反之越小,达到均匀镀膜的目的;在此基础上建立了机构运动参数对膜厚影响的数学模型,通过仿真模拟分析关键参数对膜厚分布的影响;通过运动参数优化指导实验,最终获得了直径为200mm、不均匀性不超过±4%的大面积类金刚石膜,与仿真优化结果吻合。 相似文献
35.
针对高超声速进气道在非设计工况下来流捕获量减少的问题,进行了激光能量沉积控制来流捕获的物理建模和数值模拟,在连续激光能量沉积和脉冲激光能量沉积两种方式下获得了进气道的性能参数。激光功率为15kW时,脉冲重复频率越高,与连续能量注入情况下的进气道性能越接近。脉冲重复频率为100kHz时,计算了脉冲方波占空比为0.1,0.2,0.3和0.4时的进气道流场,结果表明:占空比对进气道性能的影响不大;激光脉宽为500ns时,保持激光平均功率不变,当频率为200kHz和100kHz时,流场结构与连续能量注入时类似,而当频率为500kHz和25kHz时的进气捕获量都有所降低,因此,提高激光脉冲重复频率的同时,降低平均功率,不仅可以有效增大来流捕获,还可降低能耗。 相似文献
36.
离子束增强沉积制备Cr—N薄膜及其摩擦学性能研究 总被引:3,自引:3,他引:3
利用离子束增强沉积(IBED)技术制备了Cr-N薄膜,并对不同能量氮离子轰击所制备的薄膜组成进行了X射线衍射及光电子能谱分析,测定了涂层的断裂性值,并对涂层的摩擦学性能进行了研究。结果表明:在相同试验条件下,氮离子轰击能量影响Cr-N薄膜的相组成及取向,采用低能量氮离子轰击所得到的薄膜具有较高的断裂韧性和优异的耐磨性能。 相似文献
37.
物理气相沉积减摩与耐磨薄膜 总被引:9,自引:5,他引:9
在摩擦学研究的基础上,综合评述与探讨了物理气相沉积薄膜摩擦和磨损的机械-化学作用机理;根据这种机理分析讨论了对物理气相沉积润滑和耐磨薄膜的基本要求,提出了实现这些要求的物理气相沉积的技术基础。 相似文献
38.
影响分子沉积膜纳米摩擦特性的几个因素 总被引:5,自引:2,他引:5
利用原子力显微镜探讨了表面电荷及分子端基对分子沉积膜纳米摩擦特性的影响,并考察了表面形貌在不同扫描方向和法向高度上对摩擦力的影响.结果表明:对Si3N4针尖而言,表面净电荷对摩擦特性有一定的影响,不同类型的表面电荷对摩擦力和摩擦系数的影响不同,正电荷影响相对较大;在较小载荷和粘附力的条件下,针尖在表面上滑动时所受的摩擦作用同分子端基有关;单层CuTsPc分子沉积膜表面形貌的取向对摩擦力影响不大,分子沉积膜的表面高度同摩擦力,即时测量值并不存在对应关系,摩擦力受表面形貌的影响较小. 相似文献
39.
采用扫描电子显微镜和Falex-6型摩擦磨损试验机研究了普通铸造和喷射沉积过共晶Al—Si合金的微观组织和摩擦学性能.显微组织观察和摩擦磨损试验结果表明,喷射沉积能够显著改变过共晶Al—Si合金中初晶Si相的形态和尺寸,细化合金的基体组织;与普通铸造合金相比,沉积态合金具有更好的耐磨性能. 相似文献
40.
脉冲直流等离子体增强化学气相沉积Ti—Si—N纳米薄膜的摩擦磨损特性 总被引:3,自引:1,他引:3
采用工业型脉冲等离子体增强化学气相沉积设备,通过调节氯化物混合比例控制薄膜成分,在高速钢基材表面于550℃下沉积由纳米晶TiN和纳米非晶Si3N4组成的Ti—Si—N复合薄膜;采用扫描电子显微镜、透射电子显微镜、X射线衍射仪及X射线光电子能谱仪分析了薄膜的结构、组成和化学状态;采用球-盘高温摩擦磨损试验机考察了薄膜同GCrl5钢对摩时的摩擦磨损性能.结果表明:薄膜的Si含量在0%~35%范围内变化,随着Si含量增大,薄膜沉积速率增大,但薄膜由致密形态向大颗粒疏松态过渡;薄膜的晶粒尺寸为7~50nm;Ti—Si—N薄膜的显微硬度高于TiN的硬度,最高可达60GPa;引入少量Si可以显著改善TiN薄膜的抗磨性能,但薄膜的摩擦系数较高(室温下约0.8、400℃下约0.7);随着Si含量的增加,Ti—Si—N薄膜的耐磨性能有所降低,其原因在于引入导电性较差的Si元素使得薄膜的组织变得疏松. 相似文献