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151.
结合单晶硅各向异性腐蚀和倾斜光刻技术,在14°斜切(110)单晶硅片上成功制作出90°顶角的中阶梯光栅。在1500~1600nm波段对其进行了闪耀级次衍射效率测量,测量结果的趋势与C方法计算结果基本吻合,其中在1500~1550nm波段光栅表现出良好的闪耀特性,效率为理论值的52%~75%,峰值约为58%。讨论并计算了制作工艺中的槽深误差对光栅闪耀级次衍射效率的影响。结果表明,在1500~1550nm波段,考虑槽深误差计算所得的理论闪耀级次衍射效率约为完美槽形计算效率的77%~85%。 相似文献
152.
153.
通过倍频Nd:YAG固体激光的基波得到波长分别为532、355和266 nm的激光,研究了单晶硅(Si)对不同波长固体激光的吸收规律和3种不同波长激光在真空条件下烧蚀单晶Si的烧蚀特征。结果表明,单晶Si对波长为100~370 nm的紫外激光具有很好的吸收效果;在其他条件相同时,532 nm波长激光烧蚀单晶Si所需最低单脉冲能量(Ep=30 μJ)是355和266 nm波长激光烧蚀单晶Si所需最低单脉冲能量(Ep=15 μJ)的2倍;532、355和266 nm的激光烧蚀单晶Si的烧蚀阈值随着波长的变短而变小。 相似文献
154.
区熔单晶硅与直拉单晶硅以及其他半导体材料相比杂质含量少,少子寿命长,所以以区熔单晶硅为衬底制作的光晶体管在弱的光信号下仍然有高的增益,适宜于弱光探测.报道了以区熔单晶硅为衬底的光晶体管的实验结果.为了保持区熔高纯单晶硅内的少子寿命,背面淀积了一层掺磷多晶硅作为外吸杂层.已经测量得到对于实验中发射极直径为2mm的光晶体管在波长为0.83 μm的入射光照射下,光功率低至0.16 nW时,光晶体管的增益仍然高达4400. 相似文献
155.
基于Stillinger-Weber(SW)势和“x-分区”模型,用分子动力学方法模拟了266 nm飞秒激光烧蚀单晶硅的过程,给出了烧蚀过程的物理图像,烧蚀过程中材料内部缺陷的产生与发展最终导致整层材料被移除。对比研究了烧蚀材料中不同区域粒子的运动轨迹,结果体现了在固、液、气不同状态下粒子的运动特征。模拟了激光诱导应力波的传播,其速度为8.18 km/s。 相似文献
156.