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11.
HIRFL–CSR加速器中束流与真空中剩余气体的碰撞损失   总被引:1,自引:1,他引:0  
研究了重离子加速器中束流与真空中剩余气体的碰撞损失过程和碰撞截面,在依据大量实验数据的基础上,提出了一组计算离子一原子的电荷交换截面的经验公式.以兰州重离子加速器HDRFL及冷却储存环CSR为例,给出了依据碰撞截面的公式计算束流在加速器真空中的传输效率的方法,并计算了在不同真空度下HIRFL的ECR源轴向注入束运线、注入器SFC、前束运线、主加速器SSC和后束运线等不同加速阶段及CSR的传输效率,并提出合理的真空度要求.HIRFL的真空分布测量和束流的损失测量证明了该计算方法的可靠性.  相似文献   
12.
We have used quantum mechanical method to study the transition states(TSs) of uridine phosphorolysis reaction. Comparing the four different reaction pathways and the five transition states obtained, we conclude that enzymatic uridine phosphorolysis takes place mainly according to acid-catalyzed SN2 mechanism. The proposed reaction pathway is consistent with many experimental results.  相似文献   
13.
R S Nikam 《Pramana》1989,32(4):331-339
The Schwinger representation of the SO(8) fermion pair algebra in terms ofd and quasispin vector (u, s, v) bosons is used in deriving a microscopic boson coherent state having both particle-hole and pair excitations. The coherent state is the exact boson image of the HFB variational solution. We can study the shape phase transition and pairing behaviour of the nuclear ground states using the coherent states.  相似文献   
14.
 从推广的惠更斯-菲涅尔原理出发,推导出了部分相干电磁光束的偏振态在湍流介质中传输的表达式。并以电磁高斯-谢尔模型(EGSM)光束为例,研究了湍流对电磁高斯-谢尔模型光束偏振态的影响。研究结果表明,对于轴上点,湍流介质的折射率结构常数越大,偏振度趋于最大值的速度越快,达到的最大值越小;光斑越大,偏振度达到最大值的位置离光源越远,在光斑增大的过程中,偏振度所达到的极大值会先增大后减小,最后保持与光源相同的偏振度不变。对于轴外点,一个固定的z,光的偏振度随着离轴距离的增大而逐渐下降,并最终等于零。折射率结构常数越大,偏振度随离轴距离的增大而下降得越缓慢;光斑越大,偏振度随离轴距离的增大下降得越快。  相似文献   
15.
戴伟汉 《大学物理》2006,25(6):9-11
普遍认为分布函数f在容器壁上的取值为零,如果情况确实如此,则平衡分布函数在容器壁上将不连续,从而会产生不合理的结果.分析指出了在证明H定理时不应假定f在容器壁上为零.  相似文献   
16.
使用SAC/SAC-CI方法,利用D95(d),6-311g**以及cc-PVTZ等基组,对B2分子的基态(X3Σg-)和第一激发态(A3Σu-)的平衡结构和谐振频率进行了优化计算.通过对3个基组的计算结果的比较,得出了D95(d)基组为3个基组中的最优基组的结论;使用D95(d)基组,利用SAC的GSUM(Group Sum of Operators)方法对基态(X3Σg-),SAC-CI的GSUM方法对激发态(A3Σu-)进行单点能扫描计算,用正规方程组拟合Murrell-Sorbie函数,得到了相应电子态的完整势能函数;从得到的势能函数计算了与基态(X3Σg-)和第一激发态(A3Σu-)相对应的光谱常数(Be,αe,ωe和ωeχe),结果与实验数据吻合.  相似文献   
17.
This paper analyzes the extent to which standard dynamic renewable resource models possess refutable implications. Both the steady state comparative static and local comparative dynamic properties of the standard model are studied. A unified framework is developed which enables one to analyze the qualitative properties of any standard renewable resource model. This is achieved by explicitly linking the local stability, steady state comparative static, and local comparative dynamic properties of the model.  相似文献   
18.
采用基于第一原理的全势能线性缀加平面波加局域轨道((L)APW lo)方法对Nd(Fe,Si)11Cx化合物(x=0,2)的电子结构进行了计算,得到了化合物态密度和磁矩等信息.计算结果表明NdFe9Si2化合物中Si原子主要与4b和32i位Fe原子产生杂化,导致Fe原子磁矩减小.NdFe9Si2C2化合物C原子使32i位Fe原子磁矩进一步降低,同时减弱了Si原子的影响,使得4b位Fe原子磁矩增大.  相似文献   
19.
应用含时密度泛函理论研究了SiN团簇低能激发态的性质.将计算结果与前人已有的计算结果进行了比较,此外还根据计算得到的低能激发能对SiN-阴离子的光电子能谱进行了理论指认.研究表明,SiN-阴离子的基态为1Σ态,而光电子能谱上的X峰和A峰分别对应于1Σ→2Σ和1Σ→2Π的跃迁.研究结果还表明,用含时密度泛函的方法来处理激发态的问题是成功的. 关键词: 团簇 光电子能谱 基态 激发态  相似文献   
20.
Modification of the visual appearance when a rough surface is covered by a varnish is mostly attributed to the levelling of the substrate surface, which depends on the molecular weight of the varnish. The topography of varnished surfaces, however, has never been measured directly. Surfaces of varnishes applied over glass substrates of varying roughness were studied, therefore, using mechanical profilometry. Two different varnishes made with a low and a high molecular weight resin were studied. Both varnishes lower the r.m.s. roughness of the substrates and filter the high spatial frequencies. These results are amplified for the varnish containing the low molecular weight resin. The light reflected by the varnished samples is modelled from these topographical data. Its angular distribution, calculated from the probability density of slopes is presented, taking into account separately the air/varnish and the varnish/substrate interfaces. These analyses are presented in a back-scattering configuration. They show that varnishing significantly reduces the angular width of the reflected light and that this effect is magnified for the low molecular weight resin. Modelling furthermore shows that the influence of the roughness of the varnish/substrate interface is negligible in the total reflected light.  相似文献   
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