一类相空间中的准几率分布函数系

定义了一类相空间中的准几率分布函数系，这个准几率分布函数系直接建立在具有更加广泛意义的量子相空间Schr?dinger方程解的基础之上，其中定义_α=αp-i?q和_α=(1-α)q+i?p.发现了两个有趣的关系.(1)建立的量子相空间Schr?dinger方程的解实际上是对函数φ(λ)exp［i(1-α)qp］做窗口Fourier变换.(2)这个窗口函数g(λ)起着选择窗口形式的作用，而且不同的窗口对应着不同的分布函数.当g(λ)是一个代表Gauss窗的Gauss函数的时候，准几率分布函数就是一个类似于Husimi的分布函数f^HL_α(q,p)；当g(λ)是一个表示椭圆的复函数时，准几率分布函数就是一个椭圆分布函数f^E_α(q,p)；再在g(λ)为复函数的基础上附加α=0，就可得到标准序分布函数f^S(q,p)、反标准序分布函数f^AS(q,p)和Wigner分布函数f^W(q,p)，此时g(λ)表示高度为1/12π?而长度为λ的矩形窗. 关键词： 窗口Fourier变换 相空间 Wigner分布函数     

一种可能的简并谱NNS分布

利用随机矩阵理论,通过对一特殊情形的简并谱展开研究,得到了简并谱一种可能的最小相邻间距NNS分布函数．研究表明,由于简并的存在,简并谱不仅可分解成随机谱和规则谱两个子谱,同时还影响其规则谱,使规则谱的能级斥力减少．     

1+1/2对转涡轮叶排轴向间距对性能影响的研究

木文对1+1/2对转涡轮中轴向间距影响进行了初步研究。对不同轴向间距叶栅流场进行了大量时间精确模拟。研究表明,1+1/2对转涡轮高低压转叶间轴向间距成为追求高效率的制约因素,轴向间距为高压转叶喉部宽度是关键点。因此有关小轴向间距下强激波/叶排干扰的研究应该加强。     

原子力显微镜在分子细胞生物学研究中的应用

 1986年秉霖(G.Binning)等在扫描隧道显微镜的基础上发明了原子力显微镜(Atomicforcemicro-scope,AFM)。这种显微镜的放大倍数远远超过以往的任何显微镜,可以直接观察物质的分子和原子组成,这为微观世界的探索提供了理想的工具。AFM不仅可以以高分辨率表征样品表面形貌,分析研究与作用力相对应的各种表面性质,并可对样品的分子或原子进行纳米级力加工,也能对活的生命样品进行实时动态观测。这些特性使AFM在生命科学特别是在分子细胞生物学的研究中占据着独特的地位。一、AFM对细胞表面结构的研究AFM的样品制备简单,只需作一个渗涂片并在空气中干燥,且不需特殊的染色和固定;它的     

粒子-转子模型和推转壳模型中的能谱统计分析

用粒子–转子模型和推转壳模型研究了6个粒子分别填充在单j壳和双j壳上的混沌行为.分析了单j壳和双j壳情况下能谱的最近邻能级间距分布和谱刚度随自旋及推转频率的变化,结果表明,当组态空间大小不变时,系统在双j壳(g_7/2+d_5/2)情况下比在单j壳(i_13/2)情况下更规则,而当组态空间从单j壳(i_13/2)扩大到双j壳(i_13/2+g_9/2)时,系统的混沌程度变化不大.同时比较了将6个粒子的两体相互作用分别取为δ力和对力时的系统的混沌行为     

The production of slow particles in 16O－Em interactions at 4.5 A GeV/c

A sample of 1233 events is used to study the general characteristics of {}^{16}O－Em interactions at 4.5 A GeV/c. Multiplicity and angular distributions of slow particles and correlations among them are discussed. The present data are compared with the corresponding results from the interactions of other projectiles at the same energy and also the same projectile at different energies. The results indicate that black particle production is independent of the energy and mass of the projectile, but for grey particles it is dependent on the mass of projectile.     

Isoscaling of the Fission Fragments with Langevin Equation

The Langevin equation is used to simulate the fission process of ^112Sn ^112Sn and ^116Sn ^116Sn. The mass distribution of the fission fragments are given by assuming the process of symmetric fission or asymmetric fission with the Gaussian probability sampling. The isoscaling behaviour has been observed from the analysis of fission fragments of both the reactions, and the isoscaling parameter α seems to be sensitive to the width of fission probability and the beam energy.     

Singlet-Triplet Transition in Quantum Dots Confined by Triangular and Bowl-Like Potentials： the Effect of Electric Fields

We theoretically investigate the energy spectra of two-electron two-dimensional （2e 2D） quantum dots （QDs） confined by triangular potentials and bowl-like potentials in a magnetic field by exact diagonalization in the framework of effective mass theory. An in-plane electric field is found to contribute to the singlet-triplet transition of the ground state of the 2e 2D QDs confined by triangular or bowl-like potentials in a perpendicular magnetic field. The stronger the in-plane electric field, the smaller the magnetic field for the total spin of the ground states in the dot systems to change from S = 0 to S = 1. However, the influence of an in-plane electric field on the singlettriplet transition of the ground state of two electrons in a triangular QD modulated by a perpendicular magnetic field is quite small because the triangular potential just deviates from the harmonic potential well slightly. We find that the strength of the perpendicular magnetic field needed for the spin singlet-triplet transition of the ground state of the QD confined by a bowl-like potential is reduced drastically by applying an in-plane electric field.     

FJZ-250型高速分幅相机时间测量不确定度分析

FJZ-250型高速转镜分幅相机因转镜速度的不可重复性，光机结构的构造原理和控制系统各路高压触发时间的漂移，导致了时间测量的不确定度。为此，须对相机测量数据进行校正。阐述了校正方法、提供了逐幅校正位置误差的修正系数。若以预置转速对应的名义周期值去处理测量结果，则相机的时间测量合成小确定度将达1％，对名义周期值和名义幅间间隔时间值进行修正后，则可降至0.3％。     

光学材料微缺陷引起的损伤机理及后处理

采用时域有限差分方法（FDTD）进行元件表面微结构电磁场分布的数值模拟；同时实验分析了化学湿法刻蚀对光学元件表面面形及粗糙度、激光损伤阈值等的影响。