利用镀膜样品进行冲击波温度测量的问题和思考

针对当前进行金属冲击波温度测量中普遍使用的“金属基板／间隙／镀膜样品／透明窗口”的实验装置结构（“四层介质模型”）,详细分析了金属基板与镀样品之间的间隙对辐射法测温的影响。给出了镀膜样品与窗口之间的界面（记为“样品／窗口”界面）上的温度的解析解,并且对该界面温度的势弛豫特性进行了详细讨论。研究表明：由于冲击波穿过金属板与镀样品之间的间隙时,在金属基板与镀膜样品界面上形成了一高温界面层,使“样品／窗     

镍铝介金属镀膜之抗坑蚀行为

采用3种原子百分比Ni52Al48,Ni60Al40及Ni70Al30成分的靶材以阴极电弧放电离子被覆技术制备不同组成的Ni＿Al薄膜于AISI1045中碳钢基材表面上,并观察镀膜微结构与成分随靶材成分的变化,评估应用Ni＿Al于抗坑蚀功能方面的可行性.研究结果显示:使用上述3种靶材所获致的镀膜组成依次为Ni62Al38,Ni63Al37及Ni69Al31,镀膜镍含量随靶材镍含量增加而增加.3种镀膜的相组成均以Ni3Al为主,从富镍Ni70Al30靶材所得的镀膜尚含有部分镍相.镀膜具有极强的附着性并反映在镀膜的抗坑蚀性上.在纯水中,所有的Ni＿Al镀膜试片均能提高中碳钢基材的抗坑蚀性,约达10倍.在3.5wt%盐水与3.5wt%盐酸中亦分别有两倍以上的效果.而在这3种测试环境中,3种镀膜试片的坑蚀损失差别均不明显,无法判断镀膜组成对抗坑蚀性的影响.从动电位极化曲线可以看出,镀膜试片均能大幅提高基材在盐酸与盐水溶液中的抗蚀性,然而因坑蚀破坏而形成的孔洞会由于孔蚀而导致腐蚀加剧,造成镀膜试片在腐蚀溶液中之抗坑蚀效果低于电化学量测时所预期的保护效果.     

CCD在光学镀膜宽带膜厚监控系统中的应用研究

讨论了 CCD的主要特性及对宽带膜厚监控系统的影响 ,介绍了典型的 CCD数据采集系统。建立了一套基于 CCD的宽带膜厚监控系统 ,并对该系统进行了光谱标定及光谱补偿 ,给出了提高信噪比及减小非线性影响的处理方法。     

单层介质膜保偏全反射直角三棱镜镀膜材料的选择及其微分相位特性…

入射角，基底玻璃折射率，膜介质折射率，膜厚等因素会影响单层介质膜保偏全反射直角三棱镜的保偏特性，且各因素的影响程度并不相同。本文分析上述各因素的微小变化对保偏特性的影响，并提出了选择膜介质的方法。     

以Liq作为电子注入层的高效有机电致发光器件

利用Liq(8-hydroxy-quinolinato lithium)作电子注入层，制备了结构为ITO(indium tin oxide)／TPD(N，N′-diphenyl-N，N′—bis(3—methylphenyl)—1，1′biphenyl-4，4′diamine)／Alq3(tris-(8-hydroxy-quinolinato)aluminum)／Liq／Al的电致发光器件。实验表明，以Liq作为电子注入层器件的效率约为无Liq器件的5倍。其原因可归于Liq在金属铝电极与Alq3有机层之间产生偶极层，从而形成铝与有机层间的欧姆接触，使电子注入效率大幅提高。     

望远镜红膜物镜色度设计与检验初探

在红膜的设计与低镀制过程中，由于影响薄膜的因素较多，因而实际镀制的红膜射颜色是不一致的，造成了红膜标准的多样性。为此，本文将从色度计量方面给出设计的具体要求：从光谱特性曲线计算红物镜的透射色度和反射色度，即XYZ表色系统的色度坐标值（X、Y、Z）及其取值范围、色饱和度以及检验时的光路、光源等。     

光辐射与人类健康

 随着现代化的发展,光或光源在各行各业中起着重要作用,如在黑夜降临时,马路街道两边亮起路灯,对人们的出行带来了很大方便;X射线被发现,使外科医学向前迈了一大步;激光从诞生起,以其单色性、方向性、大功率等特点,广泛应用于工业、科研、军事、医疗卫生等方面,对人们的生活产生了重大深远的意义。然而事物总是具有两方面的,它同时也带来了许多问题。光污染最早是20世纪70年代国际天文学会首先提出,当时的情况是:大城市普遍地过多使用灯光,使天空太亮,看不见星星,从而影响了天文的观测、航空等,很多天文台因此被迫停止工作。     

LF－11~＃激光器升级倍频系统多层膜A：减反射膜

固体激光器装置升级扩展对薄膜研制提出了严重挑战。相互矛盾的各种技术指标必须匹配。就损耗、激光损伤阈值、光学技术指标和长期稳定性来讲，淀积工艺和镀膜材料的选取是至关重要的。特别地，ＬＦ一１１￣＃固体激光器升级对光学薄膜提出了许多新的性能要求。我们研制了ＬＦ一１１￣＃激光器升级所用各种薄膜元件。现分两部分讨论各种膜系研制情况。第一部分就是这篇论文所涉及的ＢＫ７玻璃，熔石英玻璃材料上的单波长，倍频双波长，二倍频、三倍频三波长减反射膜的研制。给出了膜系设计，淀积试验，光谱性能测试和激光损伤实验结果。     

分子电子学简介

 今天,超大规模集成化的电子元件尺寸不断减小.如果这种趋势继续下去,那末到下世纪中叶,单个元件的线度会只有1毫微米！这相当于每1000个原子一个信息比特(bit).对此,人们提出了有希望把复杂信息建立在分子中去然后用分子构成材料的方法.     

催化裂解低碳烷烃制备碳纳米管薄膜

碳纳米管性质奇特、用途广泛[1]。目前制备碳纳米管薄膜的方法主要有电弧放电法[2]、催化裂解[3]、及真空过滤碳纳米管悬浮液制备“巴基管纸”(Buckypaper)[4]等。本文采用镀镍基板催化裂解低碳烷烃法制备碳纳米管薄膜,考察了镀膜时间、蚀刻和氨水处理等条件对碳纳米管薄膜产物形貌的影响。1　实验部份1 1　镀膜与后处理采用离子溅射法在硅酸盐基板上镀镍,镀镍电流7 5mA,镀镍时间分别为2min、15min、30min、45min或60min;对镀镍基板再进行蚀刻(蚀刻电流7 5mA,蚀刻时间2min)或用氨水浸泡处理(含NH325%,超声振荡30min),然后烘干备用。1 …