纳米TiO2薄膜的制备方法*

本文对纳米TiO₂薄膜的各种制备方法,包括基于溶胶－凝胶的涂层方法、电沉积、化学气相沉积、物理气相沉积、自组装制膜,以及喷雾热分解等方法的研究进展进行了综述,对不同方法的优缺点进行了比较和评述,对今后TiO₂薄膜制备的研究方法提出了一些建议。     

镀膜锰铜压阻计结晶问题研究

 用磁控溅射低温沉积镀膜技术制做锰铜薄膜,能够保持薄膜中锰、铜、镍成份的相对稳定和锰铜合金正六面三元固溶体金相结构的特性。但是,锰铜镀膜的结晶晶粒度与工业生产的锰铜合金还有较大差别,宏观物理量表现为：电阻率偏高,冲击压阻系数偏小。真空加热到673 K对锰铜镀膜进行热处理1 h,可以使晶粒尺寸平均增加约20%,电阻率减小一半,0～80 GPa冲击波加载动态标定实验显示：压阻系数增加到2.0～2.6 （10^-2 GPa^-1）,接近轧制薄箔锰铜计的水平。     

Si基Sc膜的制备及结构分析

采用电子束镀膜方法在Si基底上制备了Sc膜,利用XRD,SEM分析了不同镀膜工艺条件下制备的Sc膜的形貌和结构。结果表明:基底温度在350～550 ℃时,薄膜主要由单质Sc组成,而且随着基底温度的升高,膜的颗粒尺寸增大,膜也变得更加致密;基底温度提高至650 ℃时,膜全部由ScSi化合物组成,膜变成颗粒状结构。沉积速率对低温时Sc膜的形貌与结构的影响不明显,颗粒尺寸随沉积速率的增大而增大,但物相结构基本没有发生变化;而在高温650 ℃时,沉积速率对膜的形貌与结构产生了很大的影响,随着沉积速率的增大,膜表面出现了大量微裂纹,而且较低的沉积速率有利于获得衍射峰单一的膜,增大沉积速率将会导致衍射峰数量明显增加。     

Mg-Mn-Ce镁合金表面功能纳米有机薄膜的制备与摩擦学特性

通过有机镀膜技术在Mg-Mn-Ce镁合金表面制备了有机薄膜,采用接触角测量仪测定了有机薄膜的蒸馏水接触角,使用椭圆偏振光谱仪测试了薄膜厚度,利用X射线光电子能谱仪（XPS）表征了薄膜表面典型元素的化学状态,使用原子力显微镜（AFM）观察了薄膜的表面形貌,并借助于纳米划痕测试仪评价了薄膜在微载荷下的摩擦学特性。研究结果表明：有机镀膜后镁合金表面形成了有序的纳米有机薄膜,有机薄膜与蒸馏水的接触角为108.6 °（未处理镁合金基体与水的接触角为45.8 °）,实现了亲水到疏水功能特性的转变;未处理镁合金基体的摩擦系数为0.127,有机镀膜后镁合金的摩擦系数为0.078,因此疏水性纳米薄膜能够有效降低摩擦系数。     

光学精密镀膜和干蚀刻工艺监控技术新进展

Intellevation公司是一家在干腐蚀和镀膜工艺监控方面有23年经验的专业性公司，该公司能设计并生产干腐蚀和高性能膜层监控系统。     

用双灵敏度VISAR测试冲击片雷管飞片速度

飞片是半透明的聚酯薄膜，它具有较高的透光率和低反射率。爆炸箔爆炸产生的干扰光信号透过飞片进入VISAR系统，就将会导致实验失败。同样，如果反射率低，反射光太弱也一样会导致实验失败。为了消除爆炸箔爆炸发光的干扰，同时提高飞片表面的反射率，对飞片进行了表面镀膜处理。镀膜分两种：镀铜膜和镀铝膜。镀铜膜前后飞片的光学性能见表1。     

光学零件镀膜后光洁度与牢固度的探讨

对影响科研、试制、生产零件光洁度和膜层牢固度的因素进行了分析，并提出一些改进措施.     

衍射光学平台建设

本平台建设围绕用于ICF的高衍射效率色散光栅CSG进行了元件的设计、镀膜、阈值判断、制作工艺等方面的研究和探索。搭建了衍射效率测试平台，并针对该系统作了误差定量分析。     

镀膜玻璃的紫外UVA透射性能探讨

本文论述了太阳紫外辐射UVA的危害性，对UVA的测试方法、镀膜玻璃的防紫外辐射性能作了较详细的分析和讨论。